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Symposium on ferroelectric thin films
Symposium on ferroelectric thin films
召开年:
1998
召开地:
Boston, MA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Chemical Vapor Deposition Technology of (Ba,Sr)TiO_3 Thin Films for Gbit-Scale Dynamic Random Access Memories
机译:
(Ba,Sr)TiO_3薄膜的Gbit级动态随机存取存储器化学气相沉积技术
作者:
Tsuyoshi Horikawa
;
Masayoshi Tarutani
;
Takaaki Kawahara
;
Mikio Yamamuka
;
Noriko Hirano
;
Takehiko Sato
;
Shigeru Matsuno
;
Teruo Shibano
;
Fusaoki Uchikawa
;
Kouichi Ono
;
Tatsuo Oomori
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
2.
GROWTH, MICROSTRUCTURAL AND FERROELECTRIC PROPERTIES OF PZT FILMS PREPARED BY PULSED LASER DEPOSITION METHOD
机译:
脉冲激光沉积法制备PZT薄膜的生长,微结构和铁电性能
作者:
ASHOK KUMAR
;
M.R. ALAM
;
M. SHAMSUZZOHA
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
3.
CHEMICAL SOLUTION PROCESSING OF STRONTIUM BISMUTH TANTALATE FILMS
机译:
钽酸铋薄膜的化学溶液处理
作者:
C.D.E. LAKEMAN
;
T. J. BOYLE
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
4.
STABILITY AND OXIDATION BEHAVIOR OF Ir THIN FILM ELECTRODES ON Si AND SiO_2
机译:
Si和SiO_2上Ir薄膜电极的稳定性和氧化行为。
作者:
K.L. SAENGER
;
A. GRILL
;
T.M. SHAW
;
D.A. NEUMAYER
;
CHENTING LIN
;
Y.Y. WANG
会议名称:
《》
|
1999年
5.
A HIGH STABILITY ELECTRODE TECHNOLOGY FOR STACKED SrBi_2Ta_2O_9 CAPACITORS
机译:
堆叠式SrBi_2Ta_2O_9电容器的高稳定性电极技术
作者:
J.KUDO
;
M.NAGATA
;
N.OGATA
;
S.YAMAZAKI
;
H.URASHIMA
;
A.OKUTOH
;
T.MIYOSHI
;
K.ISHIHARA
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
6.
ELECTRODE STRUCTURES FOR INTEGRATION OF FERROELECTRIC OR HIGH DIELECTRIC CONSTANT FILMS IN SEMICONDUCTOR DEVICES
机译:
半导体器件中集成铁电或高电常数薄膜的电极结构
作者:
Alfred Grill
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
7.
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (CVD) OF IRIDIUM AND PLATINUM FILMS AND GAS-PHASE CHEMICAL ETCHING OF IRIDIUM THIN FILMS
机译:
铱和铂薄膜的化学气相沉积(CVD)和铱薄膜的气相化学蚀刻
作者:
CHONGYING XU
;
FRANK DIMEO Jr
;
THOMAS H. BAUM
;
MICHAEL RUSSELL
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
8.
ULTRA-THIN PZT FILMS FOR LOW-VOLTAGE FERROELECTRIC NON-VOLATILE MEMORIES
机译:
适用于低电压铁电非挥发性存储器的超薄PZT膜
作者:
D.J. WOUTERS
;
G.J. NORGA
;
H.E. MAES
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
9.
THE ROLE OF PROCESSING PARAMETERS IN VARIATION OF MICROSTRUTURE OF SOL-GEL DERIVED LEAD ZIRCONATE TITANATE THIN FILMS
机译:
加工参数在溶胶凝胶衍生的钛酸钛酸盐薄膜的微观结构变化中的作用
作者:
Chang Jung Kim
;
Tae-Young Kim
;
Ilsub Chung
;
In Kyung Yoo
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
10.
CONTROLLING THE CHEMICAL ORDER IN PMN-TYPE RELAXORS
机译:
在PMN型放松剂中控制化学顺序
作者:
P. K. DAVIES
;
M. A. AKBAS
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
11.
PIEZOELECTRIC FILMS AND COATINGS FOR DEVICE PURPOSES
机译:
用途的压电薄膜和涂层
作者:
Michael Sayer
;
Marc Lukacs
;
Tim Olding
;
Guofeng Pang
;
Lichun Zou
;
Yan Chen
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
12.
Suppression of Size Effects in Ferroelectric Films
机译:
铁电薄膜尺寸效应的抑制
作者:
Seshu B. Desu
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
13.
Barium strontium titanate capacitors for embedded dram
机译:
嵌入式dram钛酸锶钡电容器
作者:
Peter Zurcher
;
C.J. Tracy
;
R.E. Jones Jr
;
P. Alluri
;
P.Y. Chu
;
B. Jiang
;
M. Kim
;
B.M. Melnick
;
M.V. Raymond
;
D. Roberts
;
T.P. Remmel
;
T.L. Tsai
;
B.E. White
;
S. Zafar
;
S.J. Gillespie
会议名称:
《Symposium on ferroelectric thin films》
|
1999年
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