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蔡利康; 彭劲松; 高建峰;
南京电子器件研究所;
相移掩膜; 二进制掩膜; 分辨率; 曝光范围; 焦深;
机译:相移掩膜偏振法:使用相移掩膜监测193 nm高数值孔径的偏振和浸没式光刻
机译:用于集成量子光子学的砷化镓纳米膜的软掩膜制造
机译:相移掩膜创新工艺技术在近场相移光刻中的应用
机译:通过化学和等离子体活化在砷化镓上直接进行砷化镓薄膜的晶圆对接
机译:通过直接晶圆键合的砷化铟镓和氮化镓FET。
机译:通过使用自掩膜蚀刻技术在晶圆表面形成纳米级金字塔提高多晶硅晶圆太阳能电池效率
机译:使用从相移光栅成像的目标上进行叠加测量的光刻系统基于晶圆的像差计量
机译:外延砷化镓晶圆
机译:基于砷化镓的光电器件与基于硅的集成电路的晶圆级集成工艺
机译:基于亚砷化镓晶圆的变质缓冲层结构的长波激光二极管
机译:砷化镓镓晶圆及其制造
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