摘要
ABSTRACT
第一章 引言
1.1 集成电路光刻技术概述
1.2 光刻工艺的监测系统和面临的挑战
1.3 本论文的研究目的及意义
第二章 新型的监测光刻机焦距的方法
2.1 相移光掩膜技术简介
2.2 相移光掩膜技术监测光刻机焦距的基本原理
2.3 监测焦距的相移光掩膜的制备和版图
2.4 实验方案及条件
2.5 最佳曝光能量的优化
2.6 套准误差与光刻机焦距的关系的确定
2.7 相移光掩膜监测光刻机焦距的验证应用
2.8 本章小结
第三章 相移光掩膜监测法在光刻工艺中的扩展应用
3.1 曝光托盘的监测
3.2 光刻机台镜头的监测
3.3 本章小结
第四章 总结及展望
参考文献
致谢
发表论文情况