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李世涛; 乔学亮; 陈建国;
华中科技大学,模具技术国家重点实验室,武汉,430074;
ITO薄膜; 磁控溅射; 氩气压强; 基体温度; 导电机理;
机译:磁控溅射Al2O3陶瓷靶材在不同的射频功率和氩压下通过磁控溅射沉积的Al2O3薄膜的主要性能及其对p型c-Si晶片的钝化作用
机译:射频磁控溅射沉积PZT薄膜的导电机理
机译:射频磁控溅射沉积离子束辅助ITO薄膜的特性
机译:射频磁控溅射沉积在有机膜上的ITO薄膜的研究
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:快速热退火用于射频磁控溅射沉积的高质量ITO薄膜
机译:射频功率对射频磁控溅射沉积在Ti6A14V上的羟基磷灰石薄膜性能的影响
机译:用于pb(Zr,Ti)O(sub 3)薄膜电容器的La(sub 0.5)CoO(sub 3)// pt复合电极的射频磁控溅射沉积
机译:用射频磁控溅射法和薄膜太阳能电池用射频薄膜制备木质薄膜的方法
机译:ito和iton薄膜的沉积工艺,ito和iton薄膜及其用途
机译:通过反应性射频沉积气定时的氮氧化膜的方法磁控溅射
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