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张书达;
不详;
金刚石; 表面杂质; 深度分布;
机译:考虑表面同时侵蚀和凝结条件下样品边界运动的杂质原子深度分布的形成
机译:在钙掺杂金刚石状碳膜的表面区域中的元素和化学键的深度分布
机译:SP(2)和SP(3)在生长期间由氩离子束轰击改性的金刚石状碳膜中的SP(2)和SP(3)配位碳原子的表面和深度分布
机译:硅浅结中杂质原子化学键合态的深度分布及其与电活动的关系
机译:X射线光电子能谱研究水溶液/液界面的溶质深度分布和黄铁矿薄膜的表面结构。
机译:锗:金刚石合成的新催化剂和金刚石中的新型旋光杂质
机译:高分辨率弹性反冲检测在化学气相沉积金刚石膜中的氢深度分布
机译:离子注入损伤再生和表征,以及质子注入Gaas中缺陷和杂质的深度分布。
机译:半导体晶片中的金属杂质深度分布是通过反复蚀刻水平晶片整个表面的蚀刻液并进行蚀刻液分析来确定的
机译:液晶显示装置,其中多晶中杂质浓度的深度分布的峰值的位置的变化在厚度的10%以内
机译:监测杂质密度深度分布图的方法
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