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萨宁; 康晋锋; 杨红; 刘晓彦; 张兴; 韩汝琦;
北京大学微电子所,北京,100871;
高K栅介质; 负偏置-温度不稳定性(NBTI); 反应-扩散(R-D)模型;
机译:具有Hf_xZr_(1-x)O_2和HfO_2 /金属栅叠层的p-MOSFET在动态负偏置应力和负偏置温度不稳定性之后的异常栅极电流驼峰
机译:正偏置温度不稳定性中的负阈值电压漂移和掺钇的HfO_2栅介质的负偏置温度不稳定性的正阈值电压漂移的研究
机译:活化退火温度对高k /金属栅叠层p型金属氧化物半导体场效应晶体管的性能,负偏置温度不稳定性和介电击穿寿命的影响
机译:具有高k /金属栅叠层的pMOSFET的负偏置温度不稳定性和退化机理
机译:二氧化硅和基于等离子体氮化的氧化物的pMOSFET的负偏置温度不稳定性所涉及的原子尺度缺陷。
机译:负栅偏置SiC MOSFET的辐射响应
机译:衬底偏置对p-MOSFET负偏置温度不稳定性的影响
机译:结构化栅中FET的负微分电导率观察
机译:用于监视NBTI(负偏置温度不稳定性)效应和/或PBTI(正偏置温度不稳定性)效应的电路和设计结构
机译:监视NBTI(负偏置温度不稳定性)效应和/或PBTI(正偏置温度不稳定性)效应的电路和设计结构
机译:监视负偏置温度不稳定性(NBTI)和/或正偏置温度不稳定性(PBTI)
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