ASML, Wilton, CT.;
ASML, Veldhoven, Netherlands.;
Zeiss SMT, Oberkochen, Germany;
ASML, Sunnyvale, CA.;
immersion lithography; 193nm lithography; high-n immersion fluids; immersion defects;
机译:高指数材料研究是扩展浸没式光刻技术的关键
机译:材料研究是扩展浸没式光刻技术的关键
机译:用于193 nm浸没式光刻和157 nm光刻的氟化材料的合成
机译:用高指标材料延伸浸入光刻:可行性研究的结果
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:浸渍后聚合物-砂复合材料剪切行为的实验研究
机译:非顶涂层浸入光刻的材料和工艺的开发