Assist features; SrAFs; OPC; OPC testpatterns; pattern coverage; neural networks; support vector machine;
机译:高纵横比设备图案中的无定形碳步长覆盖优化的硬掩模和光刻功能
机译:双重图案化,无面涂层的光刻胶和硅硬掩模
机译:双重图案化,无面涂层的光刻胶和硅硬掩模
机译:改进了TestPatterns和Complex SRAF的覆盖范围,以优化5nm和以下OPC和掩模图案化
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:基于改进的自适应粒子群算法的定向传感器网络区域覆盖与能耗优化方法
机译:利用缺陷专用掩膜优化模拟故障覆盖率
机译:BWR改进加油模式;减少Gadolinia残留;轴向毯优化;改进的初始核心设计