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【24h】

Utilizing Image-based Formats to Optimize Pattern Data Format and Processing In Mask and Maskless Pattern Generation Lithography

机译：利用基于图像的格式，以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理

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作者
Abboud, Fayez Elias.;
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作者单位

Nova Southeastern University.;

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授予单位 Nova Southeastern University.;
学科
学位 Ph.D.
年度 2012
页码 144 p.
总页数 144
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类 AAI3524051;
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