Department of Electrical and Computer Engineering, College of Engineering, Univerisity of California, Santa Barbara, CA 93106, USA;
III-V semiconductor-to-semiconductor contacts, p-n junctions, and heterojunctions; electroluminescence; light-emitting devices;
机译:使用高温AlN缓冲层上的GaN中间层生长的310-340nm紫外发光二极管
机译:通过在PAMBE在SiC(0001)上相干生长的AlN模板上插入超薄GaN中间层来控制AlN顶层中的应变
机译:AlN厚度对在高温AlN中间层上生长的GaN层的应变演化的影响
机译:336 NM紫外LED与ALN夹层生长,用于减少应变
机译:在块状AlN衬底上生长的亚300 nm发光二极管和激光二极管的点缺陷识别和管理。
机译:应变松弛对在具有溅射AlN成核层的4英寸蓝宝石衬底上生长的InGaN / GaN绿色LED的性能的影响
机译:使用AlN中间层方案在Si(111)上生长的无裂纹GaN中的埋入裂纹在缓解应变中的作用