Research Center;
Asahi Glass Co.;
Ltd. Hazawa-cho 1150, Kanagawa-ku, Yokohama, Kanagawa, 221-8755, Japan;
topcoat; fluoropolymer; immersion lithography; hydrophobicity; co-polymerization; polymer blend;
机译:用于ArF浸没光刻的包含大体积硅基团的新型面漆材料
机译:非顶涂层浸没光刻技术的材料和工艺的发展
机译:面向32 nm节点ArF浸没光刻的双图案化材料和工艺的开发
机译:开发ARF浸入光刻的顶层材料
机译:纳米压印光刻的过程开发,用于硅III-V材料的选择性面积生长
机译:错误:陈Z.和etsionI。最近的涂层球形接触建模的发展。材料202013460
机译:具有用于ARF浸入光刻的粗硅组的新型顶涂层材料