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机译:具有用于ARF浸入光刻的粗硅组的新型顶涂层材料
Mitsuhiro Hata; Man-Hyoung Ryoo; Sang-Jun Choi; Han-Ku Cho;
机译:用于ArF浸没光刻的包含大体积硅基团的新型面漆材料
机译:面向32 nm节点ArF浸没光刻的双图案化材料和工艺的开发
机译:ArF浸没式光刻技术需要顶级抗反射涂层材料
机译:硅基抗反射旋涂硬掩模材料,用于45 nm浸入式ArF光刻技术
机译:纳米压印光刻的过程开发,用于硅III-V材料的选择性面积生长
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
机译:用于双图案化朝向32nm节点ARF浸入光刻的材料和工艺的开发
机译:用于arF光刻的酸催化单层抗蚀剂
机译:盐酸盐作为光生酸剂和光阻组合物,其组成适用于ARF准分子激光光刻,KRF准分子激光光刻和ARF浸没光刻
机译:ArF浸没光刻技术和图案形成过程的化学放大正性抗蚀剂成分
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