Mitsubishi Rayon Co., Ltd., 10-1 Daikoku-cho, Tsurumi-ku, Yokohama, JAPAN 230-0053;
Graduate School of Advanced Technology and Science, 2-1 Minamijosanjima-cho, Tokushima JAPAN 770-8506;
Graduate School of Engineering Science, Osaka University, 1-3 Machik;
ArF photoresist copolymer; chemical composition distribution; solubility parameter; critical adsorption point-liquid chromatography; CAP-LC;
机译:非均相齐格勒-纳塔催化剂制备的乙烯-1-丁烯共聚物的化学组成分布:TREF和Crystaf分析
机译:齐格勒-纳塔多相催化剂制备的乙烯-1-丁烯共聚物的化学组成分布:TREF和Crystaf分析
机译:高温HPLC,CRYSTAF和TREF用于乙烯-乙酸乙烯酯共聚物化学成分分布分析的比较
机译:光致抗蚀剂共聚物的化学成分分布分析及对ARF光刻性能的影响
机译:具有光刻工艺的基于光阻的聚合物谐振器天线(PRA)和具有改进性能的介电谐振器天线(DRA)。
机译:芳基环氧热固性树脂的光刻性能作为微光学的阴性光致抗蚀剂
机译:共聚物化学成分分布分析。