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王敬义;
化学汽相沉积;
机译:CO + H_2混合气体对碳纳米管的低温常压CVD:热力学分析和实验观察〜1
机译:用于电致变色器件应用的MoO3和MoO3-WO3薄膜生长的低温常压CVD工艺
机译:用粗糙度演变描述比较不同淀积速率的硅薄膜在CVD工艺中的生长机理
机译:低温下薄膜生长的常压等离子体化学气相沉积(AP-PE-CVD)
机译:在常压和重力作用下,带有低温流体的振荡球的沸腾传热
机译:通过常压CVD从癸烷前体在铜上生长的氮掺杂扭曲石墨烯
机译:乙醇辅助低温汽化常压固相CVD法制备ZnO纳米棒
机译:常压CVD沉积氧化铟等离子体过滤器的特性
机译:控制常压等离子体CVD淀积的微晶硅薄膜的结晶度的方法
机译:样品加热系统,常压CVD装置和减压CVD装置
机译:样品加热装置,常压CVD装置和真空CVD装置
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