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柴常春;
薄膜;
机译:常压等离子体增强CVD法在PET上制备二氧化硅基薄膜的阻气性
机译:常压等离子体CVD法合成高阻气性DLC薄膜
机译:氮退火对常压MOCVD法在c-Al2O3上生长的ZnO薄膜结构和光致发光性能的影响
机译:亚常压化学气相沉积(SACVD)O3-TEOS UG,BPSG,PSG和等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)PSG薄膜作为微流体分配装置中的牺牲层
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:常压CVD法生长二氧化硅薄膜的理化研究
机译:常压CVD沉积氧化铟等离子体过滤器的特性
机译:控制常压等离子体CVD淀积的微晶硅薄膜的结晶度的方法
机译:控制常压等离子体CVD装置沉积的微晶硅薄膜的结晶度的方法
机译:常压CVD工艺制备掺氟氧化钨薄膜
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