首页> 外国专利> LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHODS FOR COMPENSATING SUBSTRATE UNFLATNESS, DETERMINING THE EFFECT OF PATTERNING DEVICE UNFLATNESS, AND DETERMING THE EFFECT OF THERMAL LOADS ON A PATTERNING DEVICE.

LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHODS FOR COMPENSATING SUBSTRATE UNFLATNESS, DETERMINING THE EFFECT OF PATTERNING DEVICE UNFLATNESS, AND DETERMING THE EFFECT OF THERMAL LOADS ON A PATTERNING DEVICE.

机译：用于补偿基材不平整度，确定打样设备不平整效果以及确定热负荷对打样设备的影响的照相术设备和方法。

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公开/公告号NL2003673A

专利类型
公开/公告日2010-05-25

原文格式PDF
申请/专利权人 ASML NETHERLANDS B.V.;
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申请/专利号NL20092003673
发明设计人 BIJVOET DIRK-JAN;
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申请日2009-10-20
分类号G03F7/20;G03F9/00;
国家 NL
入库时间 2022-08-21 18:45:31

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