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ETCHING SOLUTION FOR TITANIUM-BASED METAL, TUNGSTEN-BASED METAL, TITANIUM/TUNGSTEN-BASED METAL OR THEIR NITRIDES

机译:钛基金属,钨基金属,钛/钨基金属或它们的氮化物的蚀刻溶液

摘要

An etching solution for titanium-based metals, tungsten-based metals, titanium/tungsten-based metals or their nitrides. The etching solution contains 10-40 mass % hydrogen peroxide, 0.1-15 mass % of an organic acid salt, and water.
机译:用于钛基金属,钨基金属,钛/钨基金属或其氮化物的蚀刻溶液。蚀刻液含有10〜40质量%的过氧化氢,0.1〜15质量%的有机酸盐和水。

著录项

  • 公开/公告号US2011147341A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-06-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HIRONOSUKE SATO;YASUO SAITO;

    申请/专利号US200913060406

  • 发明设计人 HIRONOSUKE SATO;YASUO SAITO;

    申请日2009-08-25

  • 分类号C23F1/16;C09K13/00;C23F1/00;C23F1/26;C23F1/30;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:14:44

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