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Method for manufacturing PMMA shadow mask, PMMA shadow mask, and method for forming metal pattern by use of PMMA shadow mask

机译:制造PMMA荫罩的方法,PMMA荫罩以及通过使用PMMA荫罩形成金属图案的方法

摘要

The present invention is to provide a method for manufacturing a PMMA shadow mask, a PMMA shadow mask, and a method for forming a metal pattern by using PMMA shadow mask. For the method for manufacturing the PMMA shadow mask capable of forming a fixed pattern on a substrate, the PMMA shadow mask, and the method for forming the metal pattern by using PMMA shadow mask, a Poly(methyl methacrylate (PMMA) layer is formed on a base substrate. A through pattern is formed in the PMMA layer. The PMMA layer is separated from the base substrate.
机译:本发明提供了一种用于制造PMMA荫罩的方法,一种PMMA荫罩以及一种通过使用PMMA荫罩形成金属图案的方法。对于能够在基板上形成固定图案的PMMA荫罩的制造方法,PMMA荫罩以及通过使用PMMA荫罩形成金属图案的方法,在其上形成聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)层。所述PMMA层上形成有贯穿图案,所述PMMA层与所述基础衬底分离。

著录项

  • 公开/公告号KR101367183B1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20120042395

  • 发明设计人 이상욱;윤호열;

    申请日2012-04-24

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 15:41:25

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