制备c轴垂直取向图案化磁记录介质的方法

摘要

一种制备c轴垂直取向图案化磁记录介质的方法，该方法包括：步骤1：在衬底上，溅射一层缓冲层；步骤2：在缓冲层上溅射一层取向诱导层；步骤3：利用浸涂或者旋涂的方法，在取向诱导层上自组装一层磁性纳米颗粒阵列；步骤4：在磁性纳米颗粒阵列上溅射一层盖层，形成基片；步骤5：对基片进行退火处理，完成磁记录介质的制备。