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钞书哲; 丁玉成; 叶向东; 李涤尘;
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,710049,西安;
图案化磁记录介质; 电子束直写光刻; 电沉积; 不均匀;
机译:基于氧化铝纳米孔阵列的图案化磁记录介质的制备
机译:基于细周期阳极氧化多孔氧化铝的图案化磁记录介质的制备
机译:以单畴阳极氧化铝为基质制备图案化磁记录介质
机译:无电沉积图案化磁记录介质的CoNiP点阵的制备
机译:近红外二色性偏振滤光器制备等质子分裂纳米阵列的光刻图案化纳米级电沉积
机译:电子束图案化的自组装单层作为模板用于铜的电沉积和剥离
机译:电子束图案化的自组装单层作为模板,用于铜的电沉积和剥离
机译:利用金簇au55p((C6H5)3)12Cl6的电子束光刻技术,通过热分解和直接图案化形成导电金膜。
机译:通过电子束题字对掩模版空白进行图案化的设备和方法,同时减少了背散射电子对掩模版空白的曝光
机译:磁记录介质,用于电子束减少投影的掩模版以及磁记录介质的制造方法
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