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一种调节GaAs基二维光子晶体微腔共振模式的方法

摘要

本发明公开了一种调节GaAs基二维光子晶体微腔共振模式的方法,包括如下步骤:A、制作GaAs基二维光子晶体;B、将GaAs基二维光子晶体置于过氧化氢中氧化,在GaAs表面形成一定厚度的氧化层薄膜;C、在常温下用质量浓度为18%的盐酸溶液腐蚀GaAs基二维光子晶体表面层的氧化层,用微区PL光谱测量光子晶体的微腔模式的变化;D、重复步骤B和C,直至获得光子晶体微腔模式与量子点发光波长相等,产生共振,停止腐蚀。利用本发明,通过精确调节光子晶体孔洞的方法可以达到准确控制光子晶体微腔模式的目的,同时通过化学腐蚀可以改善孔洞侧壁的平滑度,提高光子晶体微腔的品质因子。

著录项

  • 公开/公告号CN101881856B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-04-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN200910083495.8

  • 发明设计人 彭银生;徐波;叶小玲;王占国;

    申请日2009-05-06

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人周国城

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-06-24

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 6/122 授权公告日:20120425 终止日期:20140506 申请日:20090506

    专利权的终止

  • 2012-04-25

    授权

    授权

  • 2010-12-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 6/122 申请日:20090506

    实质审查的生效

  • 2010-11-10

    公开

    公开

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