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公开/公告号CN101326257B
专利类型发明专利
公开/公告日2012-02-15
原文格式PDF
申请/专利权人 LG化学株式会社;
申请/专利号CN200680046413.7
发明设计人 李基罗;金种珌;李政熹;文光翼;高彰范;张淳浩;曹升范;洪瑛晙;
申请日2006-12-08
分类号
代理机构北京金信立方知识产权代理有限公司;
代理人朱梅
地址 韩国首尔
入库时间 2022-08-23 09:09:06
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-02-15
授权
2009-02-11
实质审查的生效
2008-12-17
公开
机译: 能够控制抛光选择性的辅助剂和包含其的化学机械抛光浆料
机译:条形喷雾器中的辅助剂和空气辅助剂,用于糖浆的沉积和菜豆(Phakopsora pachyrhizi)的控制(Sydow&Sydow)
机译:重新考虑浆料选择性的化学机械抛光图案效应
机译:二氧化铈基浅沟槽隔离化学机械抛光浆料的高选择性机理
机译:铜和钽屏障的化学机械抛光:浆料化学的研究,最佳选择性
机译:用于化学机械抛光的二氧化硅和二氧化铈纳米颗粒混合磨料浆料的胶体稳定性研究。
机译:缺氧选择性细胞毒素NLCQ-1(NSC 709257)在用作放疗辅助剂时可控制转移性疾病
机译:喷杆中的辅助剂和空气辅助剂,用于喷洒沉积物和控制菜豆(Sydow和Sydow)
机译:氢氧化铝辅助剂和甲醛在rpa炭疽疫苗配方中的作用