掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
其他
>
International Conference on Semiconductor Technology
International Conference on Semiconductor Technology
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
全选(
0
)
清除
导出
1.
A NOVEL APPROACH FOR METAL ETCH DEFECTIVITY CONTROL THROUGH AN INTEGRATED REAL-TIME DISPATCH AND STATISTICAL EQUIPMENT CONTROL SYSTEM
机译:
通过集成实时调度和统计设备控制系统的金属蚀刻缺陷控制的新方法
作者:
Lee Pin Hian
;
Lee Wai Lok
;
Wong Wing Tat
;
Chang Wan Jeng
;
Semach Dmitri
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
METAL;
DEFECTIVITY;
CONTROL;
2.
ORDERED DOPANT ARRAYS IN SEMICONDUCTORS BY SINGLE ION IMPLANTATION
机译:
单离子植入时半导体有序掺杂剂阵列
作者:
Takahiro Shinada
;
Shintaro Okamoto
;
Tomonori Kurosawa
;
Takahiro Kobayashi
;
Hideki Nakayama
;
Domingo Ferrer
;
Iwao Ohdomari
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
DOPANT;
SEMICONDUCTORS;
IMPLANTATION;
3.
A HIGH-PERFORMANCE T-SHAPE GATE POLY-SI THIN FILM TRANSISTOR WITH VACUUM GAPS FABRICATED BY SIMPLE SELECTIVE SIDE-ETCHING PROCESS
机译:
具有简单选择性侧蚀刻工艺制造的具有真空间隙的高性能T形栅极多Si薄膜晶体管
作者:
Chun-Yu Wu
;
Ta-Chuan Liao
;
Chung-Yuan Kung
;
Feng-Tso Chien
;
Chi-Wen Chen
;
Huang-Chung Cheng
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
HIGH-PERFORMANCE;
T-SHAPE;
POLY-SI;
4.
CYCLE TIME REDUCTION THROUGH REAL TIME EXECUTION IN 300MM WAFER FOUNDRY
机译:
通过300mm晶圆铸造厂的实时执行循环时间减少
作者:
Mohd Azizi Chik
;
Ung Tin Tin
;
Thangappan Krisnamuthi
;
Lim Kian Wee
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
Overhead Transportation (OHT);
Manufacturing Execution Systems (MES);
CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) and Real Time Dispatch (RTD);
5.
IAPC-INNOVATION AND ENHANCEMENT ON CMP ADVANCED PROCESS CONTROL
机译:
IAPC - CMP高级过程控制的创新与增强
作者:
Shou-Long Zhang
;
Paul-Chang Lin
;
Chuan-Ming Chong
;
Teh-Wei Ger
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
CMP;
iAPC (Intelligent Advanced Process Control);
6.
EFFECT OF AR SPUTTERING AND NITROGEN FLOW ON CU/TAN/AL BOND PAD PERFORMANCE
机译:
AR溅射和氮气流量对Cu / Tan / Al键焊盘性能的影响
作者:
Tobby Wu
;
Bo Dou
;
Jimmy Wang
;
Alfred Tsai
;
Hua Zhou
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
SPUTTERING;
NITROGEN;
PERFORMANCE;
7.
A SYSTEMIC INVESTIGATION OF IOFF DEGRADATION MECHANISM INDUCED BY HCI STRESS
机译:
HCI应力诱导互力降解机制的全身调查
作者:
Mingzhi Dai
;
Xu Zeng
;
Qingxue Wang
;
Arthur Cheng
;
Shaohua Liv
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
doping distribution;
leakage current;
GIDL;
8.
APF INTEGRATED PROCESS DEVELOPMENT BY USING H2/N2 VS. NH3 CHEMISTRY AS APF FILM MASK OPEN
机译:
APF通过使用H2 / N2对综合流程开发。 NH3化学作为APF胶片面膜打开
作者:
Joshua Tsui
;
Shawming Ma
;
Kojiri Hidehiro
;
Shing-Li Sung
;
Wonseok Lee
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
INTEGRATED;
CHEMISTRY;
MASK;
9.
IMPROVED HIGH BREAKDOWN VOLTAGE IN ALGAAS/GAAS HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTOR BY NATIVE GATE OXIDES
机译:
通过天然栅极氧化物改善了AlGaAs / GaAs高电子迁移率晶体管的高击穿电压
作者:
T.C. Cheng
;
W.C. Chang
;
K.F. Yarn
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
BREAKDOWN;
VOLTAGE;
ALGAAS/GAAS;
10.
THIN GATE OXIDE DEVICE PMOS HCI RELIABILITY AND NBTI EFFECT CORRELATION
机译:
薄栅极氧化物器件PMOS HCI可靠性和NBTI效应相关性
作者:
Joyce Zhou
;
Jeff Wu
;
Jack Chen
;
Wei-Ting Kary Chien
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
OXIDE;
RELIABILITY;
CORRELATION;
11.
DEVELOPMENT OF CHEMICAL METROLOGY FOR ELECTROLESS DEPOSITION BATHS
机译:
化学计量为无电沉积浴的发展
作者:
Peter Bratin
;
Michael Pavlov
;
Eugene Shalyt
;
Chenting Lin
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
DEVELOPMENT;
CHEMICAL;
METROLOGY;
12.
ANALYSIS OF VOLTAGE COEFFICIENT AND LEAKAGE CURRENT OF LA2O3 MIM CAPACITOR
机译:
LA2O3 MIM电容器电压系数和漏电流分析
作者:
Akira Fukuyama
;
Kuniyuki Kakushima
;
Parhat Ahmet
;
A. N. Chandorkar
;
Kazuo Tsutsui
;
Nobuyuki Sugii
;
Takeo Hattori
;
Hiroshi Iwai
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
VOLTAGE;
COEFFICIENT;
CAPACITOR;
13.
ANALYSIS OF THE ID-VG CHARACTERISTICS OF THE CONCAVE DIFFUSION LAYER TYPE SURROUNDING GATE TRANSISTOR (CC-SGT) WITH 2ONM SILICON PILLAR FOR SUPPRESSING SUBSTRATE BIAS EFFECT
机译:
用2OnM硅柱抑制衬底偏置效应的凹入栅极晶体管(CC-SGT)的ID-VG特性分析
作者:
Tomotake Ogawa
;
Hiroki Nakamura
;
Hiroshi Sakuraba
;
Fujio Masuoka
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
ID-VG;
CHARACTERISTICS;
DIFFUSION LAYER;
14.
XPS CHARACTERIZATION OF INTERFACIAL REACTION BETWEEN SICOH LOW-K DIELECTRIC AND TAN BARRIER LAYER
机译:
SICOH低k电介质和TAN阻挡层之间的界面反应的XPS表征
作者:
Lillian Zhu
;
Qing-Qing Sun
;
Hong-Liang Lu
;
Shi-Jin Ding
;
David Wei Zhang
;
Li-Kang Wang
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
CHARACTERIZATION;
INTERFACIAL;
REACTION;
15.
IMPROVEMENT OF HIGH FREQUENCY NOISE OF SIGE HBT
机译:
SiGE HBT的高频噪声的提高
作者:
Zhang Wei
;
Zhou Wei
;
Xiong Xiaoyi
;
Liu Zhihong
;
Xu Jun
;
Zhu Jun
;
Tsien Pei-Hsin
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
HIGH FREQUENCY;
IMPROVEMENT;
SIGE HBT;
16.
OPTIMIZATION OF WCVD NUCLEATION TO MEET 90NM AND BELOW CONTACT-FILL REQUIREMENTS
机译:
WCVD成核优化以满足90nm及以下接触填充要求
作者:
Luona Goh
;
Shubhranshu Singh
;
Lu Wei
;
M.S. Zhou
;
L.C. Hsia
;
Tan Way Tat
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
OPTIMIZATION;
NUCLEATION;
CONTACT-FILL;
17.
HIGH QUALITY ION IMPLANTER FOR ADVANCED LSI MASS-PRODUCTION
机译:
高品质的ION植入机,用于高级LSI大规模生产<角度和剂量>
作者:
Masayasu TANJYO
;
Tadashi IKEJIRI
;
Kohei TANAKA
;
Yuji KOGA
;
Tomoaki KOBAYASHI
;
Masaki ITO
;
Takatoshi YAMASHITA
;
Makoto Nakaya
;
Shigeki SAKAI
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
ION;
IMPLANTER;
MASS-PRODUCTION;
18.
BACKING UP MEDIUM CURRENT IMPLANTERS USING SINGLE WAFER HIGH ENERGY IMPLANTER FOR MANUFACTURING EFFICIENCY
机译:
使用单晶片高能量注入机备份中等电流植入机,用于制造效率
作者:
Wooj in Lee
;
H.L. Sun
;
Knight Xu
;
HY Tsun
;
KY Peng
;
LS Juang
;
JH Shi
;
YC Wang
;
HP Tseng
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
BACKING UP;
MEDIUM;
WAFER;
19.
BREAKING THROUGH CONVENTIONAL STI CMP: ADVANCED DIRECT STI CMP DEVELOPMENT AND IMPLEMENTATION IN MASS PRODUCTION FOR 0.16UM DRAM AND 0.13UM LOGIC PRODUCTS
机译:
通过传统的STI CMP突破:高级直接STI CMP开发和大规模生产的实施0.16um DRAM和0.13um逻辑产品
作者:
Qun Shao
;
Paul-Chang Lin
;
Chuan-Ming Chong
;
Teh-Wei Ger
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
Direct STI;
STI;
CMP;
Ceria Oxide;
HSS (High Selectivity Slurry);
20.
ENHANCING COPPER SURFACE ROUGHNESS VIA CMP FOR OPTIMAL PERFORMANCE
机译:
通过CMP提高铜表面粗糙度以获得最佳性能
作者:
Chia-Lin Hsu
;
Wen-Chieh Su
;
Shu-Jen Chen
;
Yu-Duan Tsai
;
Chien-Chung Huang
;
Shih-Fang Tzou
;
Qianqiu (Christine) Ye
;
Terence Thomas
;
Ray Lavoie
;
Hugh Li
;
Chih-Feng Dai
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
COPPER;
SURFACE ROUGHNESS;
PERFORMANCE;
21.
90NM CU/LOW-K ASSEMBLY OPTIMIZATION STUDIES
机译:
90nm Cu / Low-K组装优化研究
作者:
Vivi W. W. Ruan
;
Bonner B. Wu
;
Wei-Ting Kary Chien
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
OPTIMIZATION;
STUDIES;
ASSEMBLY;
22.
REAL TIME DISPATCHING CHALLENGES IN 300MM WAFER FOUNDRY
机译:
300mm晶圆铸造厂的实时调度挑战
作者:
Lim Lip Hong
;
Brandon Lee
;
Lim Kian Wee
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
Real Time Dispatcher (RTD);
Manufacturing Execution System (MES);
Automated Material Handling System (AMHS);
Computerized Maintenance Management System (CMMS);
Compliance and Cycle Time;
23.
TOWARDS IDENTIFICATION AND INTEGRATION OF THERMALLY STABLE BAND-EDGE METAL GATE MATERIALS ON HIGH-K DIELECTRICS
机译:
在高k电介质上识别和集成热稳态带边缘金属栅极材料
作者:
Prashant Majhi
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
THERMALLY;
BAND-EDGE;
DIELECTRICS;
24.
HIGH PERFORMANCE NMOSFET WITH HFSIXJHFO2 GATE STACK BY LOW TEMPERATURE PROCESS
机译:
低温工艺与HFSIXJHFO2栅极堆栈的高性能NMOSFET
作者:
K. Tai
;
T. Hirano
;
T. Ando
;
S. Yamaguchi
;
T. Kato
;
S. Hiyama
;
Y. Hagimoto
;
N. Yamagishi
;
K. Watanabe
;
R. Yamamoto
;
S. Kanda
;
S. Terauchi
;
Y. Tateshita
;
Y. Tagawa
;
H. Iwamoto
;
M. Saito
;
S. Kadomura
;
N. Nagashima
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
HIGH PERFORMANCE;
NMOSFET;
HFSIXJHFO2;
25.
DESIGN AND INTEGRATION OF ROBUST ESD PROTECTION IN CMOS/BICMOS TECHNOLOGIES
机译:
CMOS / BICMOS技术鲁棒ESD保护的设计与集成
作者:
Juin J. Liou
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
Electrostatic discharge;
High-Holding;
Low-Voltage-Trigger Silicon Controlled Rectifier (HH-LVTSCR);
holding voltage;
latchup;
voltage snapback;
26.
STRAINED-SOI (SSOI) AND MOBILITY ENHANCEMENT TECHNOLOGIES FOR HIGH-PERFORMANCE MOSFETS IN 45NM-NODE AND BELOW
机译:
45nm-node和下面的高性能MOSFET的紧张-SOI(SSOI)和移动增强技术
作者:
Makoto Yoshimi
;
Ian Cayrefourcq
;
Carlos Mazure
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
STRAINED-SOI (SSOI);
MOBILITY;
ENHANCEMENT;
27.
EVALUATION OF CMP SLURRY DELIVERY SYSTEMS FOR QUALITY CONTROL
机译:
CMP浆料递送系统对质量控制的评价
作者:
Mindi Xu
;
Axel Soulet
;
Laurent Doyen
;
Herve Dulphy
;
Vincent Lelievre
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
SLURRY;
QUALITY CONTROL;
EVALUATION;
28.
CHEMICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF AL203/GAAS INTERFACE IMPROVED BY NH3 PLASMA PRETREATMENT
机译:
NH3等离子预处理改善Al203 / GaAs界面的化学和电气表征
作者:
Hong-Liang Lu
;
Liang Sun
;
Shi-Jin Ding
;
Min Xu
;
David Wei Zhang
;
Li-Kang Wang
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
CHEMICAL;
ELECTRICAL;
CHARACTERIZATION;
29.
INTEGRATED REAL-TIME PRODUCTION CONTROL SYSTEM FOR CYCLE-TIME SPREAD IMPROVEMENT
机译:
集成的循环时间蔓延改进实时生产控制系统
作者:
Chan Chih Ming
;
Muralitharan Subramaniam
;
Lee Wei Hoe
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
IMPROVEMENT;
SPREAD;
INTEGRATED;
30.
INVESTIGATION OF EDGE OVER EROSION (EOE) IN CU CMP
机译:
Cu CMP中腐蚀(EOE)边缘的调查
作者:
Yuzhuo Li
;
Krishnayya Cheemalapati
;
Deenesh Bundi
;
Vivek Duvvuru
;
Sookap Hahn
;
Hongqi Li
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
EDGE;
EROSION;
CMP;
31.
CONSTRUCTION OF AN ONTOLOGY-BASED KNOWLEDGE OF CMP OF SILICON WAFERS
机译:
基于本体的硅晶片CMP知识构建
作者:
Chao-Chang A. Chen
;
Li-Sheng Hsu
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
Ontology-Based Knowledge;
CMP;
Silicon Wafers;
32.
65NM DUAL DAMASCENE PATTERNING WITH TRIPLE LAYER APPROACH
机译:
65nm双镶嵌图案,具有三层方法
作者:
Yi Shih Lin
;
Chao Jung Chen
;
Michael Hao
;
GuoQiang Xing
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
65nm;
via-first;
dual damascene;
antireflective coating;
via fill;
33.
EFFECT OF WAFER TYPES ON THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING RATE OF SILICON DIOXIDE
机译:
晶片类型对二氧化硅化学机械抛光速率的影响
作者:
Zhendong Liu
;
Robert Schmidt
;
Hugh Li
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
WAFER;
TYPES;
CHEMICAL;
34.
STUDY OF FAST NEUTRON IRRADIATION DEFECT BY FTIR
机译:
FTIR的快速中子辐照缺损研究
作者:
Xinghua Li
;
Yangxian Li
;
Guifeng Chen
;
Lili Liu
;
Lili Cai
;
Shuai Yang
;
Hongtao Li
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
NEUTRON;
IRRADIATION;
DEFECT;
35.
AN IMPROVED ENABLER ALL-IN-ONE LOW-DUAL DAMASCENE ETCH APPLICATION FOR THE 65NM NODE
机译:
为65nm节点的改进的启动器一体化低双镶嵌蚀刻应用
作者:
Ying Xiao
;
Gerardo Delgadino
;
Karsten Schneider
;
Robin Cheung
;
Suketu Parith
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
ENABLER;
DAMASCENE;
APPLICATION;
36.
A QUANTUM LEAP PERFORMANCE TO IMPROVE METAL ETCH QUALITY AND PRODUCTIVITY USING ENVIRONMENTAL-FRIENDLY POLYMERIZATION GAS
机译:
一种使用环保聚合气体改善金属蚀刻质量和生产率的量子跳跃性能
作者:
Lee Wai Lok
;
Lee Pin Hian
;
Wong Wing Tat
;
Chang Wan Jeng
;
Chan Tony
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
QUANTUM LEAP;
ETCH;
PRODUCTIVITY;
37.
CONTROLLING REMOVAL RATES AND SELECTIVITY IN BARRIER SLURRY FOR CU CMP FOR A VARIETY OF IC DESIGNS
机译:
各种IC设计中CU CMP屏障浆料中的去除率和选择性
作者:
Jinru Bian
;
Matthew VanHanehem
;
Hugh Li
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
REMOVAL;
RATES;
SELECTIVITY;
38.
ORGANOSILICATE GLASSES FOR INTERCONNECTS: WHAT MAKES THE DIFFERENCE IN A SEA OF LOW-K DIELECTRICS
机译:
用于互连的有机硅酸盐玻璃:是什么使低k电介质海洋的差异
作者:
F.Iacopi
;
Y.Travaly
;
G.Beyer
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
ORGANOSILICATE;
INTERCONNECTS;
DIFFERENCE;
39.
MULTIPLICATION NOISE SIMULATION OF AMORPHOUS SILICON/SILICON-CARBIDE SEPARATED ABSORPTION AND MULTIPLICATION REGION WITH ADDITIONAL P-N-ASIC:H/I-A-SI:H/I-A-SIC:H AVALANCHE UNIT AVALANCHE PHOTODIODE
机译:
非晶硅/碳化硅分离吸收和倍增区域的乘法噪声仿真用另外的P-N形:H / I-A-Si:H / I-A-SiC:H Avalanche单位雪崩光电二极管
作者:
Huei-Ching Huang
;
Neng-Fu Shih
;
Chung-Yuan Kung
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
MULTIPLICATION;
SIMULATION;
ABSORPTION;
40.
CONTAMINANT SOURCE IDENTIFICATION AND ELIMINATION FOR POD AND CASSETTE
机译:
污染物源识别和吊舱和盒式磁带的消除
作者:
Yanyun Liu
;
Jim Liang
;
Shun Jiang
;
Lixian Tang
;
Haidong Nie
;
Edward Zhao
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
Fluoride;
crystal defect;
Pod;
Ion Chromatography (IC);
41.
CORROSION PROTECTION OF COPPER IN POST-CMP PROCESSING
机译:
后CMP处理中铜的腐蚀保护
作者:
Dnyanesh Tamboli
;
Gautam Banerjee
;
Madhukar Rao
;
John Langan
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
CORROSION PROTECTION;
COPPER;
PROCESSING;
42.
A PCA BASED METHOD FOR DIAGNOSING PROCESS FAILURES
机译:
一种基于PCA的过程故障诊断方法
作者:
Liren Yan
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
PCA;
DIAGNOSING;
FAILURES;
43.
ELECTROLESS DEPOSITION OF CO-ALLOYS FOR COPPER INTERCONNECT ENCAPSULATION
机译:
用于铜互连封装的合金的无电沉积
作者:
Zhongmin Hu
;
Tom Ritzdorf
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
ELECTROLESS;
DEPOSITION;
CO-ALLOYS;
44.
PROCESS TECHNOLOGY FOR HIGH DOSE IMPLANT DRY STRIP AT 65NM AND BEYOND
机译:
高剂量植入干条的过程技术在65nm及以上
作者:
Stu Rounds
;
Aseem Srivastava
;
Keping Han
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
TECHNOLOGY;
IMPLANT;
BEYOND;
45.
INVESTIGATION AND IMPLEMENTING GATE RESISTANCE TESTING FOR POWER MOSFET DEVICE
机译:
功率MOSFET装置的栅极电阻测试研究
作者:
Shaohui Pan
;
Lunwen He
;
L.K. Wang
;
David Wei Zhang
;
SS Tey
;
Bifu Lee
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
IMPLEMENTING;
RESISTANCE;
MOSFET;
46.
WAFER BACKSIDE METALLIC DECONTAMINATION CONTROL FOR FEOL PROCESSING
机译:
FEOL处理的晶圆背面金属去污控制
作者:
K. Xu
;
H. Kraus
;
R. Vos
;
D. Hellin
;
J. Rip
;
J. Snow
;
P. W. Mertens
;
L. Archer
;
G. Wagner
;
F. Kovacs
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
WAFER;
METALLIC;
DECONTAMINATION;
47.
SURFACE PREPARATION TECHNIQUES USED FOR FABRICATING HIGH-K/METAL GATE DEVICE STRUCTURES
机译:
用于制造高k /金属栅极装置结构的表面制备技术
作者:
Joel Barnett
;
Muhammad Hussain
;
Jeff J. Peterson
;
Paul Kirschl
;
Seung-Chul Song
;
Chang Seo Park
;
Gennadi Bersuker
;
Byoung Hun Leel
;
Howard R. Huff
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
SURFACE;
PREPARATION;
TECHNIQUES;
48.
THE 'DIP' IN THE CD THROUGH-PITCH CURVE AND ITS RELATIONS TO THE EFFECTIVE IMAGE BLUR AFTER EXPOSURE FOR LOW Kl PROCESSES
机译:
CD通道曲线中的“DIP”及其对低KL过程暴露后的有效图像模糊的关系
作者:
Jun Zhu
;
Peng Wu
;
Yuntao Jiang
;
Qiang Wu
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
Forbidden Pitch;
effective resist diffusion length;
OPC;
OAI;
deep-UV;
49.
A STUDY ON THE PIPELINE STYLE WAY OF IC JOB SCHEDULING
机译:
IC作业调度管道风格方式研究
作者:
Liren Yan
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
PIPELINE;
STYLE;
SCHEDULING;
50.
DAMAGE OF POROUS LOW-K MATERIAL: EVALUATION METHODOLOGY AND MEANS TO MINIMIZE DAMAGE
机译:
多孔低k材料的损伤:评估方法和方法最小化损坏
作者:
Quoc Toan Le
;
Mikhail R. Baklanov
;
Els Kesters
;
Qingyuan Han
;
Shijian Luo
;
Carlo Waldfried
;
Serge Vanhaelemeersch
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
LOW-K MATERIAL;
METHODOLOGY;
DAMAGE;
51.
A MULTI-PHYSICS, MULTI-SCALE SIMULATION SOFTWARE FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
机译:
用于半导体处理的多种物理,多尺度仿真软件
作者:
Ning Zhou
;
Abhra Roy
;
Vernon Cole
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
MULTI-PHYSICS;
MULTI-SCALE;
SIMULATION;
52.
FORMATION OF ULTRA-SHALLOW JUNCTIONS BY PLASMA DOPING
机译:
通过等离子掺杂形成超浅线
作者:
Kazuo Tsutsui
;
Yuichiro Sasaki
;
Cheng-Guo Jin
;
Hideki Tamura
;
Katsumi Okashita
;
Hiroyuki Ito
;
Bunji Mizuno
;
Hendriansyah Sauddin
;
Kenta Majima
;
Takahisa Satoh
;
Yotaro Fukagawa
;
Kuniyuki Kakushima
;
Hiroshi Iwai
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
ULTRA-SHALLOW;
JUNCTIONS;
PLASMA;
53.
WAFER'S BACKSIDE CLEANING WITH A SINGLE-WAFER TOOL
机译:
晶圆与单晶片工具的背面清洁
作者:
Lewis Liu
;
Eric Brause
;
Ismail Kashkoush
;
Alan Walter
;
Richard Novak
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
BACKSIDE;
CLEANING;
SINGLE-WAFER;
54.
METAL GATES FOR ADVANCED CMOS TECHNOLOGIES
机译:
高级CMOS技术的金属门
作者:
A. Kittl
;
M. A. Pawlak
;
A. Lauwers
;
T. Schram
;
G. Pourtois
;
A. Veloso
;
H. Yu
;
T. Hoffmann
;
C. Demeurisse
;
C. Vrancken
;
S. de Gendt
;
P. Absil
;
S. Biesemans
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
METAL;
CMOS;
TECHNOLOGIES;
55.
COMBINATORIAL FABRICATION AND PHASE DIAGRAMMING OF TERNARY COMPOSITION SPREADS
机译:
三元组合物蔓延的组合制造及相位图
作者:
Parhat AHMET
;
Takahiro NAGATA
;
Dmitry Anatolyevich KUKURUZNYAK
;
Kenji OHMORI
;
Kuniyuki KAKUSHIMA
;
Kazuo TSUTSUI
;
Toyohiro CHIKYOW
;
Hiroshi IWAI
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
FABRICATION;
PHASE;
DIAGRAMMING;
56.
CENTRALIZED SUPPLY AND IMPEDANCE MONITORING FOR DUAL-DAMASCENE COPPER BATH MANAGEMENT
机译:
双层镶嵌铜浴管理的集中供应和阻抗监测
作者:
Hung-Ming Chen
;
Alan Zdunek
;
Alejandro Barajas
;
Omar Germouni
;
Delia Nieto Sanz
;
Vincent Lelievre
;
Christelle Mace
;
Pierre Soubirou
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
CENTRALIZED;
IMPEDANCE;
MONITORING;
57.
RF ESD PROTECTION FOR VDSM SI TECHNOLOGY
机译:
RF ESD保护VDSM SI技术
作者:
A. Wang
;
H. Feng
;
R. Zhan
;
H. Xie
;
G. Chen
;
X. Guan
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
ESD;
PROTECTION;
TECHNOLOGY;
58.
THEORETICAL INVESTIGATION OF THE INTERFACES BETWEEN HF-BASED HIGH-K DIELECTRICS AND POLY-SI AND METAL GATES
机译:
基于HF的高k电介质和多Si和金属门的界面的理论研究
作者:
K. Shiraishi
;
T. Nakayama
;
Y. Akasaka
;
S. Miyazaki
;
T. Nakaoka
;
K. Ohmori
;
P. Ahmet
;
K. Torii
;
H. Watanabe
;
T. Chikyow
;
Y. Nara
;
K. Yamada
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
INTERFACES;
DIELECTRICS;
POLY-SI;
59.
REDUCTION OF ORGANIC CONTAMINATION IN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT BY CONTROLLING OF ORGANIC OUTGASSING OF PLASTIC MATERIAL
机译:
通过控制塑料材料的有机分散方法减少半导体设备中的有机污染
作者:
Teruyuki Hayashi
;
Misako Saito
;
Katsuhiko Anbai
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
REDUCTION;
CONTAMINATION;
SEMICONDUCTOR;
60.
INTEGRATION CHALLENGES FOR CMP SLURRIES FOR NEXT GENERATION STI AND DIELECTRIC APPLICATIONS (NEW SLURRY AND ENDPOINTING APPROACHES)
机译:
下一代STI和介电应用的CMP浆料集成挑战(新浆料和终点接近)
作者:
Brian Mueller
;
A. Scott Lawing
;
Kerry Lindemann
;
Patrick Flanagan
;
Charlie Yu
;
Sarah Lane
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
SLURRIES;
DIELECTRIC;
ENDPOINTING;
61.
IMPACT OF SCALING ON THE LOW FREQUENCY NOISE PERFORMANCE OF ADVANCED CMOS DEVICES
机译:
缩放对高级CMOS设备低频噪声性能的影响
作者:
C Claeys
;
E. Simoen
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
IMPACT;
SCALING;
FREQUENCY;
62.
TECHNOLOGY OPTIONS FOR DUAL METAL GATE/HIGH-K CMOS
机译:
双金属门/高K CMOS的技术选择
作者:
Zhibo Zhang
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
OPTIONS;
GATE/HIGH-K;
CMOS;
63.
INVERSE LITHOGRAPHY TECHNOLOGY (ILT) AND ITS APPLICATIONS AT 65NM AND BEYOND
机译:
逆光刻技术(ILL)及其在65nm及以后的应用
作者:
Linyong Pang
;
Yong Liv
;
Andrew Moore
;
Kechang Wang
;
Grace Dai
;
Chi-Yuan Hung
;
Bin Zhang
;
Deming Tang
;
Eric Guo
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
INVERSE;
LITHOGRAPHY;
TECHNOLOGY;
64.
ENHANCING THE PERFORMANCE OF CONFORMAL I-LINE BOTTOM ANTI-REFLECTIVE COATING PRODUCTS
机译:
增强保形I线底抗反射涂层产品的性能
作者:
Joe Graber
;
Ryan Buschjost
;
Mary Ann Hockey
;
Ed Brandenburg
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
i-line conformal BARC;
continuous improvement;
65.
STRATEGIES FOR WATER TREATMENT RECLAIM TECHNOLOGIES IN SEMICONDUCTOR FAB APPLICATIONS
机译:
半导体Fab应用中水处理回收技术的策略
作者:
Thomas Fulde
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
WATER TREATMENT;
RECLAIM;
SEMICONDUCTOR;
66.
MASK MATERIALS AND NOVEL BLANKS — SOLUTIONS, CRITICAL ISSUES AND NEW OPPORTUNITIES
机译:
面具材料和小说空白 - 解决方案,关键问题和新的机会
作者:
Ute Buttgereit
;
Holger Seitz
;
Guenter Hess
;
Patrick M. Martin
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
MASK;
MATERIALS;
BLANKS — SOLUTIONS;
67.
THE DEPENDENCY OF MASK ERROR FACTOR OF LINE ENDS ON RESIST, ILLUMINATION CONDITION, AND EXPOSURE TOOL QUALITY: A SYSTEMATIC STUDY FOR MORE ROBUST OPC CORRECTION
机译:
掩模误差系数的依赖性终端结束于抗蚀剂,照明条件和曝光工具质量:对更强大的OPC校正的系统研究
作者:
Qiang Wu
;
Jun Zhu
;
Peng Wu
;
Yuntao Jiang
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
Line end shortening;
LES;
Effective resist diffusion length;
Gaussian blur;
PSM;
248nm lithography;
lens aberration;
68.
CHARACTERIZATION OF CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION WITH WHITE LIGHT INTERFEROMETRY
机译:
白光干涉测量化化学机械平坦化的特征
作者:
Shouhong Tang
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
CMP;
White Light Interferometry;
Dishing and Erosion;
69.
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF COPPER AND TANTALUM BARRIER: STUDIES ON SLURRY CHEMISTRY FOR OPTIMUM SELECTIVITY
机译:
铜和钽屏障的化学机械抛光:浆料化学的研究,最佳选择性
作者:
Arun Vijayakumar
;
Ravi Todi
;
Tianbao Du
;
Kalpathy Sundaram
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING;
TANTALUM;
BARRIER;
70.
PLANAR SPLIT DUAL GATE MOSFET
机译:
平面分割双栅MOSFET
作者:
Deyuan Xiao
;
Gary Chen
;
Roger Lee
;
Daniel Lu
;
Leong Tan
;
Yung Liu
;
C.C. Shen
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
PLANAR;
SPLIT;
MOSFET;
71.
ADVANCED LITHOGRAPHY TECHNOLOGY IN IEECAS
机译:
IEECAS中的先进光刻技术
作者:
Yanqiu Li
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2006年
关键词:
Resolution enhancement technology;
simulation;
immersion ArF lithography;
EUVL;
72.
DEVELOPMENT OF HIGH GROWTH RATE SELECTIVE SILICON EPITAXY AT LOW SUBSTRATE TEMPERATURES FOR DRAM ELEVATED SOURCE/DRAIN APPLICATION
机译:
DRAM升高源/排水施加低基板温度下高生长率选择性硅外延的研制
作者:
Andrew Lam
;
Zhiyuan Ye
;
Yihwan Kim
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
73.
PRECISE SIMULATION ON ULTRA-LOW ENERGY ION IMPLANTATION BY MOLECULAR DYNAMIC APPROACH WITH PROPER INTERACTION MODEL
机译:
用适当的相互作用模型通过分子动态方法对超低能量离子植入的精确模拟
作者:
Yi Sui
;
Li Yuan
;
Yun Ye
;
Min Yu
;
Ru Huang
;
Xing Zhang
;
Hideki Oka
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
74.
THE IMPACT OF FLUORINE AND NITROGEN INCORPORATION ON DEVICE PERFORMANCE OF TAXCY/HFO2 STACK
机译:
氟和氮气掺入对税率/ HFO2堆栈的装置性能的影响
作者:
Hsing-Huang Tseng
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
75.
LASER TWO DIMENSION UNIFORM ETCH FOR MEMS FABRICATION
机译:
MEMS制造的激光两维均匀蚀刻
作者:
Wu Bi-yan
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
76.
THE INFLUENCE OF AR SPUTTER CLEANING ON NISI FORMATION AND NISI JUNCTION LEAKAGE
机译:
Ar溅射清洁对NISI形成和NISI结漏的影响
作者:
RuiPeng Yang
;
Yuhui Hu
;
Paolo Bonfanti
;
Na Su
;
Jiaxiang Nie
;
Yun Kang
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
77.
NEXT GENERATION BARRIER CMP SLURRY FOR 45NM NODE AND BEYOND
机译:
下一代屏障CMP浆料用于45nm节点及超频
作者:
Christine Ye
;
Hugh Li
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
78.
LOW DEFECT CERIA-BASED SLURRIES: NOVEL SELECTIVITY, SLURRY CHARACTERIZATION, AND POLISHING MECHANISMS
机译:
基于缺陷的基于缺陷的浆料:新颖的选择性,浆料表征和抛光机制
作者:
David Merricks
;
Brian Santora
;
Henry Liu
;
Bob Her
;
Bradley Kraft
;
Sean Frink
;
Herb Goodman
;
Curt Hofmann
;
Craig Zedwick
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
79.
THE TOTAL DOSE RADIATION EFFECT OF PSOI MOSFET
机译:
PSOI MOSFET的总剂量辐射效应
作者:
Jianbing Cheng
;
Bo Zhang
;
Zhaoji Li
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
80.
HDP FOR 65NM STI GAP-FILL AND BEYOND
机译:
HDP为65nm STI间隙 - 填充及超越
作者:
S.L. Lim
;
B. Zuo
;
W. Lu
;
M.S. Zhou
;
P.T. Yong
;
S.W. Ling
;
M. Cheng
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
81.
IMPROVEMENT OF THERMAL STABILITY OF NI SILICIDE BY AL INTERLAYER DEPOSITION
机译:
Al层间沉积改善Ni硅化物的热稳定性
作者:
Takashi Shiozawa
;
Koji Nagahiro
;
Kazuo Tsutsui
;
Parhat Ahmet
;
Kuniyuki Kakushima
;
Hiroshi Iwai
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
82.
NEXT GENERATION CU SLURRY
机译:
下一代Cu浆料
作者:
Riichiro Aoki
;
Tatsuhiko Hirano
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
83.
A MOLECULAR DYNAMIC SIMULATION ON BORON-MONOMER AND BORON CLUSTER IMPLANTATION UNDER LINE EDGE ROUGHNESS
机译:
线边缘粗糙度下硼单体和硼簇植入的分子动态模拟
作者:
Li Yuan
;
Yun Ye
;
Yi Sui
;
Min Yu
;
Ru Huang
;
Xing Zhang
;
Hideki Oka
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
84.
FABRICATION OF MAGNETIC TUNNEL JUNCTION WITH FEPT NANODOTS FOR MAGNETIC NANODOT MEMORY
机译:
用磁纳米孔记忆的磁隧道结的制造
作者:
Cheng-Kuan Yin
;
Mariappan Mumgesan
;
Ji-Chel Bea
;
Takafumi Fukushima
;
Tetsu Tanaka
;
Mitsumasa Koyanagi
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
85.
LOW-FREQUENCY-LIKE C-V CURVE AT HIGH MEASUREMENT FREQUENCIES
机译:
高测量频率下的低频样C-V曲线
作者:
Tang Qing
;
Sun Jiansan
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
86.
USING NOVEL MONITOR- AND CORRELATION-TECHNIQUES FOR ADVANCED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
机译:
使用新型监测和相关技术进行高级半导体制造
作者:
Dieter Rathei
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
87.
COMPACT MOSFET MODEL FOR ELECTROSTATIC DISCHARGE (ESD) APPLICATIONS
机译:
用于静电放电(ESD)应用的紧凑型MOSFET模型
作者:
Juin J. Liou
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
88.
HEAR SENSOR BASED ON ALN THIN FILMS ACOUSTIC BULK WAVE RESONATOR
机译:
基于ALN薄膜声学散装波谐振器的听到传感器
作者:
Li Kan
;
Dong Shu-rong
;
Wang De-miao
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
89.
QUALIFICATION TESTING OF CMP RETAINING RINGS
机译:
CMP保留环的资格测试
作者:
Norm V. Gitis
;
Jun Xiao
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
90.
RELIABILITY AND QUALITY ASPECTS OF ELECTROLESS NICKEL/PALLADIUM /GOLD- A UNIVERSAL FINISH FOR UBM AND WAFER LEVEL PACKAGING
机译:
无电镀镍/钯/金的可靠性和质量方面 - UBM和晶圆级包装的通用饰面
作者:
Tom Thieme
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
91.
APC APPLICATION FOR 65NM ETCH PROCESS CONTROL WITH OCD
机译:
APC应用65nm蚀刻过程控制与OCD
作者:
Shanshan Du
;
ChingTien Ma
;
Haiyang Zhang
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
92.
SELF-REGULATORY ATMOSPHERIC POCL3 DOPING PROCESS
机译:
自我监管大气POCL3掺杂工艺
作者:
Yunhua Xu
;
Robert Sing Chiong Tiong
;
Kamisan Buang
;
Jiansan Sun
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
93.
THE LASER WRITING - DRY ETCH PROCESS FOR COST EFFICIENT 180 NM PHOTOMASK MANUFACTURING
机译:
用于成本效益180nm光掩模制造的激光书写 - 干蚀刻工艺
作者:
Zhibiao Mao
;
Xiaolei Bao
;
Zhigang Ping
;
Quan Wei
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
94.
TCC REVERSE ENGINEERING THROUGH CIRCULAR SAMPLING AND GENETIC ALGORITHM
机译:
TCC通过循环采样和遗传算法逆向工程
作者:
Shan-Hu Shen
;
Chun-Lei Xie
;
Zheng Shi
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
95.
EXPOSURE TOOLS FOR THE LATEST IMMERSION LITHOGRAPHY
机译:
最新浸入光刻的曝光工具
作者:
Yuichiro Takeuchi
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
96.
MEETING THE ITRS CHALLENGES: SURFACE ENGINEERING FOR SUB-65 NM TECHNOLOGY NODES
机译:
符合ITRS挑战:Sub-65 NM技术节点的表面工程
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
97.
METHODS OF TESTING CLAMPING FORCE UNIFORMITY OF WINDOW INSERTS
机译:
窗口夹紧力均匀性测试方法
作者:
Wu Lin
;
A. Pharamond
;
C. M. Aragona
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
98.
ANTI-DIFFUSION DIELECTRIC FOR BARRIER-FREE INTERCONNECT
机译:
用于无障碍互连的抗扩散电介质
作者:
Nobuhide Maeda
;
Yoshio Takimoto
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
99.
STUDY OF SILXGEX EPITAXY GROWTH ON SI(IOO) AND SI(lll)
机译:
Si(IOO)和Si(LLL)对SilxGex淫秽生长的研究
作者:
Liang Renrong
;
Zhou Wei
;
Xu Yang
;
Wang Jing
;
Zhang Wei
;
Liu Zhihong
;
Zhu Jun
;
Xu Jun
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
100.
STUDY ON THE CMP SLURRY FOR TANTALUM BARRIER LAYER OF COPPER INTERCONNECTION IN ULSI
机译:
ULSI铜互连钽阻挡层CMP浆料研究
作者:
Baimei Tan
;
Jingyu Yuan
;
Xinhuan Niu
;
Jianwei Zhou
;
Yuling Liu
;
Chunxiang Cui
会议名称:
《International Conference on Semiconductor Technology》
|
2007年
意见反馈
回到顶部
回到首页