首页> 中国专利> 用于功率金属氧化物半导体场效应晶体管及集成电路的递减电压多晶硅二极管静电放电电路

用于功率金属氧化物半导体场效应晶体管及集成电路的递减电压多晶硅二极管静电放电电路

摘要

本发明揭示一种用于功率MOSFET的静电放电(ESD)保护网络,其包含含有多晶硅齐纳二极管及电阻器的并联分支,所述保护网络用于保护栅极免遭由ESD引起的高电压所引起的爆裂。所述分支可具有供电压跨越栅极区行进到半导体衬底中的同一或独立路径。具体来说,次级分支具有比初级分支高的击穿电压,使得跨越所述保护网络的两个分支来共享所述电压。装置的ESD保护网络在不增加裸片上所使用空间的情况下提供更有效的设计。所述ESD保护网络也可与其它有源及无源装置(例如晶闸管、绝缘栅极双极晶体管及双极结晶体管)一起使用。

著录项

  • 公开/公告号CN101517743B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 飞兆半导体公司;

    申请/专利号CN200780034918.6

  • 申请日2007-10-01

  • 分类号H01L29/68(20060101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人孟锐

  • 地址 美国缅因州

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-27

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 29/68 变更前: 变更后: 申请日:20071001

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2011-07-20

    授权

    授权

  • 2011-07-20

    授权

    授权

  • 2009-10-21

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-10-21

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-08-26

    公开

    公开

  • 2009-08-26

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号