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用于投影扫描光刻机的对准方法及微器件制造方法

摘要

本发明公开了一种用于扫描投影光刻机的利用三个基本光栅周期的相位光栅探测的对准方法,以及使用该方法的微器件制造方法。本发明的用于投影扫描光刻机的对准方法在基底标记或基底台基准标记使用三周期相位光栅,只利用这三个周期的一级衍射光作为对准信号,可以实现大的捕获范围的同时获得高的对准精度和较强的信号强度,提高系统信噪比,简化光路设计和调试难度,简化硬件实现和缩小信号处理时间开销,提高对准效率。

著录项

  • 公开/公告号CN101114134B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-05-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN200710044153.6

  • 申请日2007-07-24

  • 分类号G03F7/22(20060101);G03F7/20(20060101);G03F9/00(20060101);H01L21/027(20060101);

  • 代理机构31002 上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人王洁

  • 地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-27

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/22 变更前: 变更后: 申请日:20070724

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-05-19

    授权

    授权

  • 2010-05-19

    授权

    授权

  • 2008-03-19

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-03-19

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-30

    公开

    公开

  • 2008-01-30

    公开

    公开

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