公开/公告号CN101114134B
专利类型发明专利
公开/公告日2010-05-19
原文格式PDF
申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;
申请/专利号CN200710044153.6
申请日2007-07-24
分类号G03F7/22(20060101);G03F7/20(20060101);G03F9/00(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构31002 上海智信专利代理有限公司;
代理人王洁
地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
入库时间 2022-08-23 09:04:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-04-27
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/22 变更前: 变更后: 申请日:20070724
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2010-05-19
授权
授权
2010-05-19
授权
授权
2008-03-19
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-03-19
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-01-30
公开
公开
2008-01-30
公开
公开
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机译: 用于扫描曝光的投影设备以及使用该设备的微器件的制造方法
机译: 对准方法,使用该对准方法的曝光方法,使用该曝光方法的器件制造方法,通过该器件制造方法制造的器件,以及对准器件,具备该对准器件的曝光装置
机译: 对准方法,使用该对准方法的曝光方法,使用该曝光方法的器件制造方法,通过该器件制造方法制造的器件,以及对准器件,具备该对准器件的曝光装置