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产生远紫外区中光的设备及其对利用远紫外区中辐射的光刻源的应用

摘要

本发明涉及一种用于在激光束(1)聚焦的真空空间内产生基本上线性的靶(4)的设备(2),该靶能够通过与聚焦的激光束(1)相互作用而发射等离子体,该等离子体发射远紫外辐射。接收设备(3)在靶(4)与聚焦的激光束(1)相互作用之后接收靶(4),同时收集设备(110)收集由靶(4)发射的EUV辐射。将激光束聚焦在靶(4)上的元件(11)被布置成使得通过使激光束(1)位于相对于靶(4)的公共半空间内并通过相对于垂直于靶(4)的中间收集轴(6)倾斜大约60°至90°之间的预定角度而使得激光束(1)侧向聚焦在靶(4)上。收集设备(110)相对于中间收集轴(6)对称布置在包含聚焦在靶(4)上的激光束(1)的半空间内,且在中间收集轴(6)为中心的锥形空间(8)内,该锥形空间(8)的顶点位于靶(4)上,且顶点处的半角小于相对于该中间收集轴(6)的聚焦的激光束(1)的倾斜角度。该设备适于用作在光刻中用于EUV辐射的光源,用于制造集成电路。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-08-29

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20090916 终止日期:20110614 申请日:20050614

    专利权的终止

  • 2009-09-16

    授权

    授权

  • 2007-10-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-15

    公开

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