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直接成像曝光装置以及直接成像曝光方法

摘要

【课题】能够超过以往的分辨率的极限而有效地提高分辨率,以使照射的光的图案尽可能接近设计曝光图案。【解决手段】利用具备作为DMD的空间光调制器的曝光单元向曝光区域E照射曝光图案的光,一边利用移动机构使对象物W经过曝光区域E而移动一边向对象物W的表面的感光层照射临界曝光量以上的光而进行曝光。对象物W的要曝光点多次位于空间光调制器的开启状态的像素镜所对应的对应坐标G而进行多重曝光。到设计曝光图案的边界的距离小于曝光点间距的曝光点的多重曝光的次数是根据到边界的距离而设定的比最大次数少的次数。

著录项

  • 公开/公告号CN110325918B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社阿迪泰克工程;

    申请/专利号CN201780070310.2

  • 发明设计人 铃木昌治;

    申请日2017-11-13

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人吕文卓

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 12:24:02

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