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公开/公告号CN100454497C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-01-21
原文格式PDF
申请/专利权人 美光科技公司;
申请/专利号CN200480027564.9
发明设计人 N·R·吕格尔;W·布奇;李卫民;G·S·桑胡;
申请日2004-09-20
分类号H01L21/316(20060101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人王允方;刘国伟
地址 美国爱达荷州
入库时间 2022-08-23 09:01:56
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-01-21
授权
2006-12-27
实质审查的生效
2006-11-01
公开
机译: 填充间隙的方法和使用高密度等离子体化学气相沉积法沉积材料的方法
机译: 填充间隙的方法和使用高密度等离子体化学气相沉积的材料沉积方法
机译:在高密度等离子体化学气相沉积过程中使用等离子体沉积的氮氧化硅膜抑制氢离子漂移到下层
机译:在高密度等离子体化学气相沉积过程中,使用等离子体沉积的氮氧化硅膜抑制氢离子漂移进入下层
机译:Au辅助化学气相沉积方法对P-Si衬底高密度水母样GaN / SiOxNy纳米材料的构建,表征和生长机理
机译:使用新型线性,高密度等离子体源在网上进行等离子体增强化学气相沉积(PECVD)
机译:等离子体增强的硅基薄膜材料的化学气相沉积:使用质谱和低温(<600摄氏度)固相结晶的实时过程感测
机译:使用Cd (C6H5)2PSSe 2单源前驱物全面了解硫属镉化物的化学气相沉积:密度泛函理论方法
机译:通过射频放电等离子体中等离子体增强化学气相沉积方法的合成碳纳米瓦尔
机译:等离子体增强化学气相沉积作为肽纳米管沉积的方法。