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具有带界面增强层的半导体存储器的电子设备

摘要

本技术提供一种电子设备。根据本文件的实施方式的电子设备可以包括用于储存数据的半导体存储器,并且半导体存储器可以包括自由层,其具有可变磁化方向;钉扎层,其具有钉扎磁化方向;隧道阻挡层,其介于自由层和钉扎层之间;以及界面增强层,其介于隧道阻挡层和钉扎层之间,并包括导电的多层层叠结构,以增强半导体存储器的磁特性,其中界面增强层可以包括:富Fe的第一层;富Co的第二层,其形成在第一层之上;以及金属层,其形成在第二层之上。

著录项

  • 公开/公告号CN107394038B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱思开海力士有限公司;

    申请/专利号CN201710287376.9

  • 申请日2017-04-27

  • 分类号H01L43/08(20060101);H01L43/10(20060101);

  • 代理机构11363 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人任静;许伟群

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 11:30:00

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