图形转印用光掩模的图形布局方法及图形转印用光掩模

摘要

基于本发明的图形转印用光掩模的布局方法具备：配置把像向感光膜转印的带状主图形(11a、11b)的步骤；基于主图形(11a、11b)的布局、按照规定的规则临时配置实质上不把像向感光膜转印的辅助图形(12a、12b)的步骤；在这些辅助图形(12a、12b)中，挑选形成其一端的端边与形成主图形(11b)一端的端边部分重复而接触的辅助图形(12a)的步骤；以及调节挑选了的辅助图形(12a)的位置，以使挑选了的辅助图形(12a)的端边与主图形(11b)的端边完全重复而接触的步骤。通过使用这样的图形转印用光掩模的布局方法，一面谋求提高分辨率，一面能够容易地进行掩模缺陷检查。