掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献代查
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology
Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology
召开年:
2001
召开地:
Monterey, CA(US);Monterey, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
全选(
0
)
清除
导出
1.
Alternating Phase Shifting Mask Implementation to 0.1um Logic Gates
机译:
将相移掩模实现为0.1um逻辑门
作者:
Chung-Hsing Chang
;
San-De Tzu
;
Chen-Hao Hsieh
;
C.M.Dai
;
Burn J.Lin
;
Chia-Hui Lin
;
Hua-Yu Liu
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
CD;
CDU;
LER;
Alt-PSM;
mask error factor (MEF);
model based OPC;
2.
Automation Techniques for the handling of Photomask Data
机译:
用于处理光掩模数据的自动化技术
作者:
J. Gordon Hughes
;
Leslie J. Drennan
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
process automation;
data fracturing;
supply chain integration;
AutoMOPS;
3.
CD Metrology on OPC Features using Light Optical and Electron Optical Tools
机译:
使用光光学和电子光学工具的OPC功能CD计量学
作者:
Thomas Schaetz
;
Stefan Doebereiner
;
Gerd Scheming
;
Hans-Juergen Brueck
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
optical proximity correction;
OPC;
metrology;
CD metrology;
4.
Challenging Giga-Feature Pattern Generation
机译:
具有挑战性的千兆特征模式生成
作者:
Leif Odselius
;
Lars Ivansen
;
Anders Thuren
;
Mikhail Savitsky
;
Jan-Erik Larsson
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
micro-lithography;
reticles;
datapath;
parallel;
scalable;
high-capacity;
high-throughput;
graphic formats;
5.
Characterization of an integrated multibeam laser mask-pattern generation and dry-etch processing total solution
机译:
集成多光束激光掩模图案的表征和干法蚀刻加工整体解决方案
作者:
Alex Buxbaum
;
Melisa Buie
;
Brigitte Stoehr
;
Warren Montgomery
;
Scott Fuller
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
CAR;
dry-etch;
DUV;
integrated process recipe;
PEB;
6.
Characterization of Quartz Etched PSM Masks for KrF Lithography at the 100 nm node
机译:
用于100 nm节点的KrF光刻的石英刻蚀PSM掩模的表征
作者:
P. Rhyins
;
M. Fritze
;
D. Chan
;
C Carney
;
B.A Blachowicz
;
M. Vieira
;
C. Mack
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
7.
Defect Dispositioning in a Reticle Qualification Process
机译:
光罩鉴定过程中的缺陷处理
作者:
Mark Hawkins
;
Art Klaum
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
photolithography;
reticle;
low k_1;
mask error factor (MEF);
defect printability;
8.
Defect Printability Analysis of Attenuated PSM Using PASSTM
机译:
使用PASSTM的衰减PSM缺陷可印刷性分析
作者:
Yumiko Maenaka
;
Norihiko Takatsu
;
Ichiro Kagami
;
Daichi Kakuta
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
AttPSM;
PASS;
virtual stepper;
simulation;
9.
Dependence of Mask Defect Printability and Printability Criteria on Lithography Process Resolution
机译:
掩模缺陷可印刷性和可印刷性标准对光刻工艺分辨率的依赖性
作者:
Alan Stivers
;
Edita Tejnil
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
10.
Enhanced Optical Inspectability of Patterned EUVL Mask
机译:
图案化EUVL掩模的增强的光学可检查性
作者:
Ted Liang
;
Alan Stivers
;
Pei-Yang Yan
;
Edita Tejnil
;
Guojing Zhang
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUVL mask;
mask inspection;
image contrast;
multilayer blank;
surface treatment;
11.
Evaluation of Reticle Cleaning Performance with Different Drying Methods for High-Grade Photomasks
机译:
用不同的干燥方法评估高级光掩模的光罩清洁性能
作者:
Woo Gun Jeong
;
Si Woo Lee
;
Dae Hong Kim
;
Young Jin Yoon
;
Dong Heok Lee
;
Boo Yeon Choi
;
Sang-Soo Choi
;
Sung Mo Jung
;
Soo Hong Jeong
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
direct-displacement IPA dry;
vander waals force;
SPM;
APM;
HT PSM;
STG (surface tension gradient);
12.
Extended capability of laser writer for masks beyond 180 nm nodes
机译:
激光写入器的扩展功能可用于超过180 nm节点的掩模
作者:
Sung-Yong Cho
;
Jeong-Yun Lee
;
Chang-Hwan Kim
;
Sung-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
;
Jung-Min Sohn
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
optical pattern generator;
process-induced limitations;
i-line resist;
photolithography;
iso-dense bias;
football effect;
13.
Financial Impact of Technology Acceleration on Semiconductor Masks
机译:
技术加速对半导体掩模的财务影响
作者:
W.J. Trybula
;
K.R. Kimmel
;
B.J. Grenon
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
lithography masks;
cost of ownership;
mask CoO;
technology acceleration;
mask processing;
14.
First Performance Data Obtained on Next Generation Mask Metrology Tool
机译:
在下一代口罩计量工具上获得的首次性能数据
作者:
Gerhard Schlueter
;
Klaus-Dieter Roeth
;
John Whittey
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
15.
GDSII Considered Harmful
机译:
GDSII被认为有害
作者:
Alfred Reich
;
Robert Boone
;
Warren Grobman
;
Clyde Browning
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
GDSII;
mask;
optical proximity correction;
phase shift;
reticle;
XML;
16.
Highly versatile tapeout automation system
机译:
高度通用的流片自动化系统
作者:
Richard D. Morse
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
data management;
tapeout;
chip-finishing;
frame generation;
data prep;
mask engineering;
17.
Implementation and characterization of a DUV raster-scanned mask pattern generation system
机译:
DUV光栅扫描掩模图案生成系统的实现与表征
作者:
Michael J. Bohan
;
H. Christopher Hamaker
;
Warren Montgomery
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
CAR;
CW laser;
DUV;
mask pattern generation system;
multibeam;
18.
Improved Method for Measuring and Assessing Reticle Pinhole Defects
机译:
测量和评估光罩针孔缺陷的改进方法
作者:
Darren Taylor
;
Anthony Vacca
;
Larry Zurbrick
;
William Howard
;
William Broadbent
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
inspection;
pinhole printability;
19.
Improved yield with SMIF implementation on ALTA systems
机译:
通过在ALTA系统上实施SMIF来提高产量
作者:
Jacob Doushy
;
Gregory E. Valentin
;
Paul Geller
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
reticle;
throughput;
defect;
SMIF;
particle;
20.
Influence of e-beam induced contamination on the printability of resist structures at 157nm exposure
机译:
电子束感应污染对157nm曝光下抗蚀剂结构可印刷性的影响
作者:
Christof M. Schilz
;
Klaus Eisner
;
Stefan Hien
;
Thomas Schleussner
;
Ralf Ludwig
;
Armin Semmler
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
157nm;
CD-SEM;
organic contamination;
printability;
e-beam deposition;
metrology;
inspection;
photomask;
resist;
21.
Inspection and Repair of EUV
机译:
EUV的检查和维修
作者:
Emily Fisch
;
Louis Kindt
;
Michael Lercel
;
Michael Schmidt
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
NGL;
EUV;
mask inspection;
mask repair;
22.
Inspection of production alternating PSM reticles using UV-based 365 nm reticle inspection tool
机译:
使用基于紫外线的365 nm标线检查工具检查生产的交替PSM标线
作者:
Anja Rosenbusch
;
Michael Har-zvi
;
Gidi Gottlib
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
phase shift mask;
193 nm AAPSM;
248 nm AAPSM;
i-line inspection;
mask inspection;
reticle enhancement technique (RET);
23.
Integrated Method of Mask Data Checking and Inspection Data Prep for Manufacturable Mask Inspection: Inspection Rule Violations
机译:
可制造口罩检查的口罩数据检查和检查数据准备的集成方法:违反检查规则
作者:
Joan McCall
;
Vinod Reddy
;
Hyung Min Kim
;
Mark Babasa
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
inspection rule violation (IRV);
mask inspection;
data prep;
do not inspect region (DNIR);
24.
Loading Effect Parameters at Dry Etcher System and Their Analysis at Mask-to-mask Loading and Within-Mask Loading
机译:
干蚀刻系统的加载效果参数及其在面罩到面罩和面罩内加载的分析
作者:
Hyuk-Joo Kwon
;
Dong-Soo Min
;
Pil-Jin Jang
;
Byung-Soo Chang
;
Boo-Yeon Choi
;
Soo-Hong Jeong
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
25.
Measurement of the Magnitude of Triboelectrification in the Environment of the 157 nm. Stepper
机译:
157 nm环境中摩擦起电幅度的测量。踏步机
作者:
Larry B. Levit
;
Wei Guan
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
157nm.;
lithography;
static charge;
ESD damage;
reticles;
26.
Multi-beam high resolution die-to-database reticle inspection
机译:
多光束高分辨率芯片到数据库掩模版检查
作者:
William W. Volk
;
William H. Broadbent
;
Hector I. Garcia
;
Sterling G. Watson
;
Phillip M. Lim
;
Wayne E. Ruch
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
inspection;
reticles;
attenuating;
OPC;
27.
New Approaches to Alternating Phase Shift Mask Inspection
机译:
交替相移掩模检查的新方法
作者:
Larry Zurbrick
;
Jan Heumann
;
Maciej Rudzinski
;
Stan Stokowski
;
Jan-Peter Urbach
;
Lantian Wang
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
alternating phase shift masks;
inspection;
28.
New Generation Photo Masks: 193-nm Defect Printability Study
机译:
新一代光掩模:193 nm缺陷可印刷性研究
作者:
Linard Karklin
;
Paul van Adrichem
;
Frank Driessen
;
Stan Mazor
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
ArF;
Low-k;
sub-wavelength;
OPC;
phase-shift mask;
tri-tone mask;
mask defect;
printability;
29.
New Method for Reducing Across Chip Poly-CD Variation with Statistical OPC/Gauge Capability Analysis
机译:
统计OPC /量规能力分析用于减少芯片多CD差异的新方法
作者:
Hidetoshi Ohnuma
;
Koji Kikuchi
;
Hiroichi Kawahira
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
rule- based OPC;
model-based OPC;
ACLV;
IPQC;
gauge capability;
Poly-CD;
correction grid;
30.
100nm OPC Mask Patterning using Raster-Scan, 50kV Pattern Generation Technology
机译:
使用光栅扫描,50kV图形生成技术的100nm OPC掩模图形
作者:
Frank Abboud
;
Ki-Ho Baik
;
Varoujan Chakarian
;
Damon Cole
;
Jay Daniel
;
Robert Dean
;
Mark Gesley
;
Maiying Lu
;
Robert Naber
;
Tom Newman
;
Frederick Raymond
;
David Trost
;
Mark Wiltse
;
William DeVore
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
MEBES;
electron beam;
lithography;
photomask;
graybeam;
CAR;
OPC;
31.
2001 update on the SEMI Standards Mask Qualification Terminology Task Force
机译:
SEMI标准掩模合格术语工作组的2001年更新
作者:
Rik Jonckheere
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
reticle metrology;
reticle quality;
pattern fidelity;
printability;
resolution enhancement;
32.
A New Algorithm for Optical Photomask CD Metrology for the 100-nm Node
机译:
用于100 nm节点的光掩模CD计量的新算法
作者:
Nicholas G. Doe
;
Richard D. Eandi
;
Patrick St. Cin
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
CD metrology;
photomask;
optical proximity;
optical metrology;
33.
OPC strategies to minimize mask cost and writing time
机译:
OPC策略可最大程度地减少掩模成本和写入时间
作者:
Michael L. Rieger
;
Jeffrey P. Mayhew
;
Jiangwei Li
;
James P. Shiely
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
34.
Optimization of ArF Alternating Phase-Shifting Mask Structure, for 100nm node, and Inspection of Phase Defects
机译:
用于100nm节点的ArF交替相移掩模结构的优化和相缺陷的检查
作者:
Kazuaki Chiba
;
Hiroyuki Takahashi
;
Wataru Nozaki
;
Shinji Akima
;
Susumu Nagashige
;
Yoshiro Yamada
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
alternating phase shift mask;
PSM;
DUV;
phase defect;
UV inspection;
AIMS;
35.
Partitioning of Photomask Processes for Defects
机译:
光掩模工艺分区的缺陷
作者:
Charles H. Howard
;
Russell Shoemake
;
Phillip Lim
;
Curt Linder
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
inspection;
after develop inspection;
dry etch;
ZEP7000;
36.
Pattern Generation with SLM Imaging
机译:
通过SLM成像生成图案
作者:
Tor Sandstroem
;
Per Askebjer
;
Jesper Sallander
;
Raoul Zerne
;
Andrzej Karawajczyk
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
pattern generation;
photomasks;
DUV;
SLM;
micro-mirrors;
37.
Performance data of a new 248 nm CD metrology tool proved on COG reticles and PSM's
机译:
新型248 nm CD计量工具的性能数据已在COG标线和PSM的
作者:
Gerhard Schlueter
;
Walter Steinberg
;
John Whittey
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
CD metrology;
mask metrology;
CD linearity;
optical resolution;
248-nm CD measurement tool;
light optical measurement tool;
100-nmnode;
38.
Performance Optimization of the Double Exposure Alternating PSM for (sub-) 100 nm ICs
机译:
(亚)100 nm IC双曝光交替PSM的性能优化
作者:
G. Vandenberghe
;
Frank Driessen
;
Paul van Adrichem
;
K. Ronse
;
Jason Li
;
Linard Karklin
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
ArF;
resolution enhancement;
100nm node;
phase-shift;
double exposure;
CMOS;
39.
PMJ01 Panel Discussion Review, 'Issues on mask technology for 100-nm lithography'
机译:
PMJ01小组讨论评论,“有关100纳米光刻的掩模技术的问题”
作者:
Hiroyoshi Tanabe
;
Hisatake Sano
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
technology roadmap;
CD control;
mask cost;
defect control;
OPC mask;
PSM;
40.
Polarized Phase Shift Mask: Concept, Design, and Potential Advantages to Photolithography Process and Physical Design
机译:
偏振相移掩模:光刻工艺和物理设计的概念,设计和潜在优势
作者:
Ruoping Wang
;
Warren Grobman
;
Alfred Reich
;
Matthew Thompson
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
phase shift mask;
polarized light;
phase conflict;
physical design;
41.
Slashing turn around time by introducing distributed computing
机译:
通过引入分布式计算来减少周转时间
作者:
Gerd Ballhorn
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
linux;
distributed computing;
cluster;
computing time;
turn around time;
OPC;
CATS;
42.
Technologies for Electron Beam Reticle Writing Systems for 130 nm Node and Below
机译:
130 nm及以下节点的电子束刻线写系统技术
作者:
Genya Matsuoka
;
Hidetoshi Satoh
;
Akira Fujii
;
Kazui Mizuno
;
Tetsuji Nakahara
;
Suyo Asai
;
Yasuhiro Kadowaki
;
Hajime Shimada
;
Hiroshi Touda
;
Ken Iizumi
;
Hiroyuki Takahashi
;
Kazuyoshi Oonuki
;
Toshikazu Kawahara
;
Katsuhiro Kawasaki
;
Koji Nagata
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
e-beam reticle writing;
fine address size;
data reconstruction;
proximity effect correction;
CD accuracy;
positioning accuracy;
43.
The Development of Refined Cleaning Technique Focusing On Ecological Viewpoint
机译:
以生态观为中心的精细清洁技术的发展
作者:
Koji Tange
;
Yoshikazu Nagamura
;
Kunihiro Hosono
;
Yuki Oomasa
;
Koichi Kido
;
Atsushi Hayashi
;
Yasuaka Kikuchi
;
Ichiro Imagawa
;
Yuuichi Matsuzawa
;
Hozumi Usui
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
44.
Tip Shape Effects in Scanning Probe Metrology
机译:
扫描探针计量学中的尖端形状效应
作者:
Rand Cottle
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
metrology;
CD AFM;
sidewall angle;
CD SEM;
footing;
cross section;
reticle;
photomask;
45.
Tool and Process Optimization for 100nm Maskmaking using a 50kV Variable Shaped E-Beam System
机译:
使用50kV可变形状电子束系统进行100nm掩模制造的工具和工艺优化
作者:
Dirk Beyer
;
Dirk Loeffelmacher
;
Gernot Goedl
;
Peter Hudek
;
Bernd Schnabel
;
Thomas Elster
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
SB350MW;
electron beam lithography;
maskmaking;
shaped beam;
CD control;
proximity effect;
fogging effect;
46.
Understanding Bossung Curve Asymmetry and Focus Shift Effect in EUV Lithography
机译:
了解EUV光刻中的Bossung曲线不对称性和焦点偏移效果
作者:
Pei-yang Yan
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUVL mask;
focus shift effect;
bossung curves;
mask topography;
EUVL mask simulation;
47.
Use of Nanomachining as a Technique to Reduce Scrap of High End Photomasks
机译:
使用纳米加工作为减少高端光掩模报废的技术
作者:
Roy White
;
Martin Verbeek
;
Ron Bozak
;
Marty Klos
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
48.
Using high-resolution (0.13μm) UV-based reticle inspection for CD uniformity in incoming quality control
机译:
使用高分辨率(0.13μm)基于UV的分划板检查CD均匀性
作者:
Ernesto Villa
;
Emanuele Baracchi
;
Anja Rosenbusch
;
Michael Har-zvi
;
Gidi Gottlib
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
linewidth bias monitor (LBM);
CD control;
CD uniformity mapping;
mask inspection;
incoming quality control (IQC);
49.
Utilization of Optical Emission Endpoint in Photomask Dry Etch Processing
机译:
光发射终点在光掩模干法刻蚀工艺中的利用
作者:
Thomas Faure
;
Cuc Huynh
;
Michael Lercel
;
Adam Smith
;
Thomas Wagner
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
dry etching;
reactive ion etching;
photomask;
optical emission spectroscopy;
endpoint detection;
50.
Wafer FAB Experience of Implementing 50-kV Vector e-beam Mask Writer and Dry Etch Process for 130nm Technology Node Generation
机译:
Wafer FAB为130nm技术节点生成实施50 kV矢量电子束掩模写入器和干法蚀刻工艺的经验
作者:
Won D. Kim
;
Bob Bennett
;
Mark Ma
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
130nm device technology node;
50-kV e-Beam mask writer;
ACLV;
51.
Wavelength Dependant Mask Defect Inspection and Printing
机译:
波长相关掩模缺陷检查和打印
作者:
Martin McCallum
会议名称:
《Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology》
|
2002年
关键词:
alternating PSM;
actinic inspection;
quartz defects;
high NA;
意见反馈
回到顶部
回到首页