硅晶圆的最终抛光方法和最终抛光装置

摘要

本发明公开了硅晶圆的最终抛光方法和最终抛光装置，其中，最终抛光方法包括在所述最终抛光进行至剩余预定时间内，同时使用抛光浆料和氧化溶液作为抛光液，以使得硅晶圆表面形成亲水性氧化硅薄膜。由此，采用该最终抛光方法可以有效地在硅晶圆表面形成亲水性氧化硅薄膜，而该亲水性氧化硅薄膜可以在清洗前有效保持硅晶圆表面湿润，避免硅晶圆表面干燥，同时省去了长时间抛光布修整磨合期，显著提高了处理效率同时降低了成本。