退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN106200256B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-10
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社 S&S TECH;
申请/专利号CN201510421048.4
发明设计人 南基守;申澈;梁澈圭;李钟华;崔珉箕;金昌俊;张圭珍;
申请日2015-07-17
分类号
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人樊晓焕
地址 韩国大邱广域市达西区虎山洞路42,704-240
入库时间 2022-08-23 11:04:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-10
授权
2017-01-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/26 申请日:20150717
实质审查的生效
2016-12-07
公开
机译: 相位反转空白掩模和光掩模
机译:Selete的EULE掩模掩模缺陷减少技术扩展到EUVL掩模的光掩模缺陷检查和修复技术即使掩模尺寸为100 nm,也可以实现高精度的检查图像对比度
机译:通过径向对称的共轭相位掩模,具有空间频率后处理的径向对称的共轭相位掩模
机译:移动光纤/相位掩模扫描束技术可提高生产具有均匀相位掩模的光纤光栅的灵活性
机译:临界EUV Photomask工艺步骤的离子束处理:掩模空白沉积和光掩模吸收器蚀刻
机译:适用于高对比度成像应用的最佳相位掩模。
机译:基于掩模区域的卷积神经网络自动检测和表征丘脑红细胞的定量相位图像
机译:移动光纤/相位掩模扫描光束技术,用于写入具有均匀相位掩模的任意轮廓光纤光栅
机译:光掩模空白的干涉测量计:使用633 nm波长的方法。