公开/公告号CN108588650B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-04-10
原文格式PDF
申请/专利权人 航天材料及工艺研究所;中国运载火箭技术研究院;
申请/专利号CN201810384095.X
申请日2018-04-26
分类号
代理机构中国航天科技专利中心;
代理人张丽娜
地址 100076 北京市丰台区南大红门路1号
入库时间 2022-08-23 10:54:59
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-10
授权
授权
2018-10-26
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/32 申请日:20180426
实质审查的生效
2018-10-26
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/32 申请日:20180426
实质审查的生效
2018-09-28
公开
公开
2018-09-28
公开
公开
2018-09-28
公开
公开
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机译: 连续熔化和蒸发固体材料的系统和方法,气相沉积涂层系统,连续送入电极,电弧放电设备。通过气相沉积涂层产生电弧放电以电离气相涂层的方法。通过汽相沉积测量涂层系统中蒸发器的电离度和蒸发速率,并去除附着在真空镀膜上的真空室中沉积的材料。
机译: 等离子体真空弧源阴极点运动轨迹的控制方法及等离子体真空弧源装置
机译: 同轴真空弧蒸气沉积源,使用相同的真空蒸气沉积装置和薄膜沉积方法