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一种c-MgxZn1-xO/MgO多量子阱异质结构材料及其制备工艺

摘要

本发明的c-MgxZn1-xO/MgO多量子阱异质结构材料,其结构特征是:由6个~25个c-MgxZn1-xO/MgO“势阱/势垒”周期所构成;MgO材料做势垒层,c-MgxZn1-xO(即立方MgxZn1-xO)材料做势阱层;每个“势阱/势垒”周期中的垒层厚度为20nm~30nm,阱层厚度为2nm~3nm。本发明的c-MgxZn1-xO/MgO多量子阱异质结构材料,其制备工艺特征是:采用电子束反应蒸发方法,通过让高能聚焦电子束交替轰击MgO陶瓷靶材和(MgO)x(ZnO)1-x陶瓷靶材,在衬底表面交替生长超薄MgO势垒层和超薄c-MgxZn1-xO势阱层得到c-MgxZn1-xO/MgO多量子阱异质结构材料产品。

著录项

  • 公开/公告号CN100356642C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-12-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN200510049275.5

  • 申请日2005-01-28

  • 分类号H01S5/347(20060101);H01L33/00(20060101);H01L31/00(20060101);C30B29/16(20060101);C30B29/22(20060101);H01L21/20(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/22(20060101);

  • 代理机构33212 杭州中成专利事务所有限公司;

  • 代理人唐银益

  • 地址 310027 浙江省杭州市浙大路38号

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-03-31

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2007-12-19

    授权

    授权

  • 2006-03-22

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-12-14

    公开

    公开

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