首页> 中国专利> 试料支架、离子铣削装置、试料加工方法、试料观察方法、以及试料加工观察方法

试料支架、离子铣削装置、试料加工方法、试料观察方法、以及试料加工观察方法

摘要

提案了一种在由加工装置加工分析试料后不从试料支架取下该分析试料就能用观察装置进行观察的侧入方式试料支架。该试料支架具备:把持部(34);从把持部(34)延伸的试料支架主体(35);与试料支架主体(35)连接并设有用于固定试料(203)的试料台(204)的前端部(32);以及用于变更固定于试料台(204)的试料(203)的加工面与离子束的照射方向的相对位置关系,避免在试料(203)加工过程中对前端部(32)照射离子束的机构(参照图3)。

著录项

  • 公开/公告号CN108475607B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立高新技术;

    申请/专利号CN201680077768.6

  • 发明设计人 上野敦史;高须久幸;

    申请日2016-02-03

  • 分类号

  • 代理机构北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人金成哲

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 10:44:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-19

    授权

    授权

  • 2018-09-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/20 申请日:20160203

    实质审查的生效

  • 2018-09-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/20 申请日:20160203

    实质审查的生效

  • 2018-08-31

    公开

    公开

  • 2018-08-31

    公开

    公开

  • 2018-08-31

    公开

    公开

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