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氮化物底层及其制备方法

摘要

本发明提供一种具有嵌入式纳米柱结构的氮化物层,用于外延生长、制备高外量子效率的氮化镓基发光二极管;本发明同时揭示了一种形成嵌入式纳米柱结构底层的制备方法。具体步骤包括:(1)提供具有不同生长速率晶面的图形衬底;(2)在所述衬底上进行预处理;2)在所述衬底上形成氮化物成核层;(3)采用三维生长条件下外延生长氮化物层;4)采用二维外延生长条件,外延生长二维氮化物层。本发明避免了为形成纳米柱结构而需要采用的复杂芯片工艺,解决了采用芯片工艺对芯片可靠性的影响,能有效提升器件的光电性能,增加器件稳定性和抗压可靠性。

著录项

  • 公开/公告号CN107086173B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津三安光电有限公司;

    申请/专利号CN201710214025.5

  • 发明设计人 叶大千;张东炎;吴超瑜;王笃祥;

    申请日2017-04-01

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 300384 天津市西青区华苑产业区海泰南道20号

  • 入库时间 2022-08-23 10:41:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-25

    授权

    授权

  • 2017-09-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20170401

    实质审查的生效

  • 2017-09-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20170401

    实质审查的生效

  • 2017-08-22

    公开

    公开

  • 2017-08-22

    公开

    公开

  • 2017-08-22

    公开

    公开

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