公开/公告号CN105590839B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-09-14
原文格式PDF
申请/专利权人 安徽三安光电有限公司;
申请/专利号CN201610162997.X
申请日2016-03-22
分类号
代理机构
代理人
地址 241000 安徽省芜湖市经济技术开发区东梁路8号
入库时间 2022-08-23 10:16:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-09-14
授权
授权
2016-06-15
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20160322
实质审查的生效
2016-06-15
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20160322
实质审查的生效
2016-05-18
公开
公开
2016-05-18
公开
公开
机译: 用于形成光刻底层薄膜的材料,用于在光刻形成底层薄膜的组合物,用于光刻的底层膜及其制备方法,图案形成方法,树脂和纯化方法
机译: 抗蚀剂底层膜组合物的制备方法,用于制备抗蚀剂底层膜的聚合物并使用该抗蚀剂底层膜组合物进行图案化工艺
机译: 用于底层涂层的组合物,形成底层涂层的底层涂层的方法和载体底层的载体制造方法