法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-04-02
授权
授权
2017-03-22
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/306 申请日:20161116
实质审查的生效
2017-03-22
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/306 申请日:20161116
实质审查的生效
2017-02-22
公开
公开
2017-02-22
公开
公开
机译: 用于抛光基板的背面的设备,用于抛光基板的背面的系统,用于抛光基板的背面的方法以及具有用于抛光基板的背面的程序的记录介质
机译: GaN HEMT器件的背面通孔金刚石直接生长
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