首页> 中国专利> 催化过氧化氢电还原的三维Pd-Ni纳米线阵列催化剂的制备方法

催化过氧化氢电还原的三维Pd-Ni纳米线阵列催化剂的制备方法

摘要

本发明提供的是一种催化过氧化氢电还原的三维Pd‑Ni纳米线阵列催化剂的制备方法。将液态的低熔点铋基合金刷涂在径迹刻蚀的聚碳酸酯膜模板表面组成一个复合电极;以复合电极为工作电极、电解镍片为辅助电极、饱和Ag/AgCl电极为参比电极,在电解液中进行电化学沉积,沉积时间为4小时;电沉积过程结束后,用二氯甲烷溶解模板并用乙醇冲洗,得到三维Ni纳米线阵列电极;利用化学原位生长法将制得的Ni纳米线阵列电极放入PdCl

著录项

  • 公开/公告号CN106549168B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工程大学;

    申请/专利号CN201610911506.7

  • 申请日2016-10-20

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区南通大街145号哈尔滨工程大学科技处知识产权办公室

  • 入库时间 2022-08-23 10:22:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-11

    授权

    授权

  • 2017-04-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01M4/92 申请日:20161020

    实质审查的生效

  • 2017-04-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01M 4/92 申请日:20161020

    实质审查的生效

  • 2017-03-29

    公开

    公开

  • 2017-03-29

    公开

    公开

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