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一种在铝衬底上外延生长的AlGaN薄膜及其制备方法

摘要

本发明提供一种在铝衬底上外延生长的AlGaN薄膜及其制备方法,包括以下步骤:1)取Al衬底,在Al衬底表面退火处理;2)外延生长AlGaN薄膜:将步骤1)处理后的Al衬底,以Al(111)面为外延面,利用激光烧蚀GaN靶材外延生长AlGaN薄膜。该方法利用了Al(111)的优势:Al(111)衬底与AlGaN(0002)之间晶格失配较小,介于8.9%‑11.4%,有利于AlGaN材料的形核和生长。该方法通过使Al衬底中的Al原子扩散到GaN的晶格中,可简单、高效地制备高质量的不同Al组分的AlGaN薄膜。生长的AlGaN薄膜可在紫外探测器、紫外LED等制造领域发挥重要的作用。

著录项

  • 公开/公告号CN105719966B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 河源市众拓光电科技有限公司;

    申请/专利号CN201610147664.X

  • 发明设计人 李国强;

    申请日2016-03-15

  • 分类号H01L21/324(20060101);H01L21/203(20060101);C23C14/28(20060101);

  • 代理机构44288 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人秦维

  • 地址 517000 广东省河源市高新技术开发区兴业大道东边、高新一路创业服务中心三楼317室

  • 入库时间 2022-08-23 10:20:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-20

    授权

    授权

  • 2016-07-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/324 申请日:20160315

    实质审查的生效

  • 2016-07-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/324 申请日:20160315

    实质审查的生效

  • 2016-06-29

    公开

    公开

  • 2016-06-29

    公开

    公开

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