公开/公告号CN105619267B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-02-02
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;
申请/专利号CN201610115165.2
申请日2016-03-01
分类号
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人王宝筠
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所
入库时间 2022-08-23 10:06:59
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-02-02
授权
授权
2016-06-29
实质审查的生效 IPC(主分类):B24D3/34 申请日:20160301
实质审查的生效
2016-06-01
公开
公开
机译: 使用固定研磨垫和铜层化学机械抛光液的铜化学机械抛光工艺,特别适用于使用固定研磨垫的化学机械抛光
机译: 使用固定研磨垫和钨层化学机械抛光液的钨化学机械抛光工艺,特别适用于使用固定研磨垫的化学机械抛光
机译: 使用固定研磨垫和铜层化学机械抛光液的铜化学机械抛光工艺,特别适用于使用固定研磨垫的化学机械抛光