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根据切克劳斯基法提拉半导体单晶和适用于其的石英玻璃坩埚

摘要

在已知的根据切克劳斯基法提拉半导体单晶的方法中,在石英玻璃坩埚中制造半导体熔体并从中提拉半导体单晶。所述石英玻璃坩埚的内壁和所述半导体熔体的自由熔体表面在此在坩埚内壁上径向环绕的接触区彼此接触并分别与熔体气氛接触,由此引发从所述接触区开始的熔体初振动。以在此基础上提供一种方法,其以减少的熔体振动和特别是以简单而短暂的拉晶过程为特征,本发明提出,引发频率彼此不同的初振动。

著录项

  • 公开/公告号CN104662210B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-07-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201380050766.4

  • 发明设计人 M.许纳曼;T.凯泽;W.勒曼;

    申请日2013-09-17

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人周铁

  • 地址 德国哈瑙

  • 入库时间 2022-08-23 09:58:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-21

    授权

    授权

  • 2015-06-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 15/10 申请日:20130917

    实质审查的生效

  • 2015-06-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 15/10 申请日:20130917

    实质审查的生效

  • 2015-05-27

    公开

    公开

  • 2015-05-27

    公开

    公开

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