法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-09-17
专利权的转移 IPC(主分类):G02B 7/02 登记生效日:20190829 变更前: 变更后: 申请日:20140928
专利申请权、专利权的转移
2017-06-09
授权
授权
2017-06-09
授权
授权
2015-02-25
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B7/02 申请日:20140928
实质审查的生效
2015-02-25
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 7/02 申请日:20140928
实质审查的生效
2015-01-28
公开
公开
2015-01-28
公开
公开
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机译: 具有施加在具有投影物镜的用于微光刻的投影曝光装置空基板上的层状结构,以及具有反射镜和反射镜的用于微光刻的那种投影物镜。
机译: 用于EUV波长范围的反射镜,用于该反射镜的基板,用于包括该反射镜或基板的用于微光刻的投影物镜以及用于包括该投影物镜的用于微光刻的投影曝光设备
机译: 用于EUV波长范围的反射镜,包括这种反射镜的用于微光刻的投影物镜以及包括这种投影物镜的用于微光刻的投影曝光设备