公开/公告号CN215517628U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-01-14
原文格式PDF
申请/专利权人 大连诺豪联恒电子科技有限公司;
申请/专利号CN202121951826.8
发明设计人 姜兴辉;
申请日2021-08-19
分类号C23C16/50(20060101);C23C16/458(20060101);
代理机构21251 沈阳天赢专利代理有限公司;
代理人李荣新
地址 116000 辽宁省大连市中国(辽宁)自由贸易试验区大连经济技术开发区生命二路39-13-5号1-3层
入库时间 2022-08-23 03:55:34
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-09-16
专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):C23C16/50 专利号:ZL2021219518268 登记号:Y2022980013994 登记生效日:20220829 出质人:大连诺豪联恒电子科技有限公司 质权人:中国建设银行股份有限公司大连自贸区支行 实用新型名称:一种PECVD沉积腔体和PECVD沉积装置 申请日:20210819 授权公告日:20220114
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
机译: PECVD(等离子体增强化学气相沉积)处理装置和在基材上实施PECVD处理的方法
机译: 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应室的辅助装置及采用该方法的膜沉积方法
机译: 一种在PECVD工艺中使用等离子辅助后沉积步骤还原低介电常数材料的方法