公开/公告号CN215469546U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-01-11
原文格式PDF
申请/专利权人 哈尔滨市佳河管业有限公司;
申请/专利号CN202121441979.8
发明设计人 赵殿波;
申请日2021-06-28
分类号B23Q1/72(20060101);B65G47/74(20060101);
代理机构21251 沈阳天赢专利代理有限公司;
代理人李荣新
地址 150000 黑龙江省哈尔滨市利民开发区利民大道1083号
入库时间 2022-08-23 03:50:49
机译: 横向磁场对光束束聚集区域的束调制装置和使用深度剂量调制装置的束流辐射治疗装置以及在束束上的剂量横向束流和束流调制的方法
机译: 横向磁场对光束束聚集区域的束调制装置和使用深度剂量调制装置的束流辐射治疗装置以及在束束上的剂量横向束流和束流调制的方法
机译: 一种高能量密度硅石墨阳极材料和高能量密度硅石墨材料的制备方法