公开/公告号CN208667844U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-03-29
原文格式PDF
申请/专利权人 长江存储科技有限责任公司;
申请/专利号CN201821262692.7
发明设计人 郭帅;
申请日2018-08-06
分类号
代理机构上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人董琳
地址 430074 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
入库时间 2022-08-22 08:37:25
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-29
授权
授权
机译: 有机EL元件的有机薄膜层的沉积方法,有机EL元件的薄膜层的沉积装置以及有机EL元件
机译: 用于沉积碳化硅的装置和用于沉积能够防止薄膜层缺陷的碳化硅的方法
机译: 用于在基板上连续沉积多个薄膜层的气相沉积装置