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一种InGaAsP四元系材料外延生长中III族元素的定标结构

摘要

本实用新型公开了一种InGaAsP四元系材料外延生长中III族元素的定标结构,具体是一种III族元素速率和组分配比定标结构;该结构包括InP衬底、InP缓冲层、InxGa1‑xP外延层和InP帽层。该定标结构的X射线衍射摇摆曲线对InP帽层厚度、InxGa1‑xP外延层厚度和组分配比敏感,测试精度高,可以同时精确获得镓、铟束源的速率以及组分配比信息。

著录项

  • 公开/公告号CN208422859U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-01-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 新磊半导体科技(苏州)有限公司;

    申请/专利号CN201820504347.3

  • 发明设计人 冯巍;

    申请日2018-04-10

  • 分类号H01L21/02(20060101);

  • 代理机构11203 北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人沈波

  • 地址 215151 江苏省苏州市高新区建林路666号出口加工区配套工业园28号厂房

  • 入库时间 2022-08-22 07:57:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-22

    授权

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