公开/公告号CN208422859U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-01-22
原文格式PDF
申请/专利权人 新磊半导体科技(苏州)有限公司;
申请/专利号CN201820504347.3
发明设计人 冯巍;
申请日2018-04-10
分类号H01L21/02(20060101);
代理机构11203 北京思海天达知识产权代理有限公司;
代理人沈波
地址 215151 江苏省苏州市高新区建林路666号出口加工区配套工业园28号厂房
入库时间 2022-08-22 07:57:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-01-22
授权
授权
机译: 制造III族氮化物膜的方法,用于外延生长的衬底,III族氮化物膜,用于III族氮化物元素的外延生长衬底和III族氮化物元素
机译: 制造III族氮化物膜的方法,用于外延生长的衬底,III族氮化物膜,用于III族氮化物元素的外延生长衬底和III族氮化物元素
机译: 具有金刚石晶体结构和III族氮化物的基体上III族金属表面极性III族氮化物的异外延生长方法