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喇曼散射分析的测量装置的吸附衬底

摘要

用于表面增强喇曼散射分析的测量装置所专用的吸附衬底属于表面分析技术和光谱技术领域。本实用新型是用适当颗粒的金属粉末对铜片或铝片进行机械抛光,获得表面粗糙度为500和1000的铜质吸附衬底和铝制吸附衬底。利用这种吸附衬底进行表面分析及痕迹物质的检测均有很高的灵敏度,并且价格低廉。

著录项

  • 公开/公告号CN86201587U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日1987-03-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院物理研究所;

    申请/专利号CN86201587

  • 发明设计人 莫育俊;李秀英;

    申请日1986-03-20

  • 分类号G01N21/65;

  • 代理机构中国科学院物理研究所专利办公室;

  • 代理人高存秀

  • 地址 北京市603信箱

  • 入库时间 2022-08-21 22:31:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 1987-10-07

    授权

    授权

  • 1987-03-25

    公开

    公开

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