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两种在双面研抛机上实现的单面抛光方法

摘要

本发明公开了两种在双面研抛机上实现的单面抛光方法,包括双面研抛机的压重式单面抛光方法和双面研抛机的粘贴式单面抛光方法。其中双面研抛机的压重式单面抛光方法主要包括:在所述游星盘上设置压块,上磨盘始终保持与下磨盘不接触的状态,进行抛光。双面研抛机的粘贴式单面抛光方法主要包括:将晶体材料无需抛光的表面用粘合剂对粘在一起,上下磨盘同时进行抛光。通过在双面研抛机上采用上述两种方法,实现在双面研抛机上对晶体材料进行单面抛光,无需另外购置专用的单面研抛机,充分节约成本,并且进一步提高加工效率,有利于产业化。

著录项

  • 公开/公告号CN103158054B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-02-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 张卫兴;

    申请/专利号CN201110425142.9

  • 发明设计人 张卫兴;

    申请日2011-12-19

  • 分类号

  • 代理机构南京众联专利代理有限公司;

  • 代理人顾进

  • 地址 210003 江苏省南京市南瑞路紫竹苑1-2号

  • 入库时间 2022-08-23 09:34:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-03

    授权

    授权

  • 2013-08-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24B29/02 申请日:20111219

    实质审查的生效

  • 2013-06-19

    公开

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